泛铨5纳米TEM试片制备能力领先同行

来源:台湾经济日报 作者: 时间:2018-10-22 09:32

TEM试片 5nm 材料

  微缩技术不断演进,TEM试片制备厚度是TEM分析能力的重要指针,泛铨的超薄5纳米TEM试片制备能力,居同业之冠。

  技术长陈荣钦博士表示,材料分析产业只要有钱、愿意投资,引入先进仪器并不难,但单凭设备并无法建立绝对的竞争力;他强调,好的分析设备须配合优异的试片制备技术以及精准的数据判读能力,这是分析质量的关键。

  泛铨科技董事长柳纪纶表示,南科分公司重资引进先进设备,阵容浩大,将以「技术x质量x服务」为优势,迎接营运黄金世代。 翁永全/摄影

  以如何使低介电材料(Low-k),不因电子束的照射导致缩小、变形为例,一般分析业者不外乎减少电子束照射能量与提升样品强度两样方式,而泛铨研发团队拥有独步全球的技术,制备低介质材料样品的收缩比例达到业界最好;此外, 较软的材质「光阻」也是业界在分析上相当棘手的材料,特别在最先进的半导体技术上。 半导体制程进到7纳米之后,极紫外光(EUV)光刻微影是关键技术,但曝光光阻可能产生的缺陷是需要克服的问题,泛铨领先世界发展的检测光阻缺陷技术,能在不损伤光阻材料情况下制备出完整样品,以便于分析曝光缺陷和制程问题, 协助半导体厂改良制程。

  有鉴于全球积极发展半导体技术,大厂间的角力竞争与窥探,轻则影响到公司的兴衰,重则可能动摇国本。 柳纪纶表示,对半导体设计、制造商而言,芯片布局(layout)、使用材料等数据为制程命脉,需要长期留存,绝对不能外泄。 泛铨认为,工程技术能力超群固然重要,信息安全更是重要的环节。

  为妥善保全客户的数据,泛铨特别增设信息长职务以及营运保全处(BOSD),并规划滴水不漏的资安流程,严格执行,获得重要客户认同。 泛铨实验室无论客户或员工,甚至泛铨董事长、总经理及副总等一线主管,进出实验室均需检查背包物品,相机、笔电及手机镜头贴上保密贴。 实验室内多数区域列为严管禁地,只有被授权人员才能进出。



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