EUV”的相关资讯
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  • EUV技术 为摩尔定律延命

    随着晶片功能愈趋强大,在半导体制程愈趋复杂的情况下,摩尔定律的推进已经放缓,以台积电、三星、英特尔等三大半导体厂目前采用的浸润式(immersion)微影及多重曝影(multi-patterning)技术来说,若要维持摩尔定律的制程推进速度,晶

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    2019-02-25 09:59
  • 台积电抢下今年EUV过半出货量,力拼二代7nm与5nm量产

    就在日前,半导体设备大厂荷兰商艾司摩尔(ASML)在财报会议上表示,2019年ASML将把极紫外光刻机(EUV)的年出货量从18台,提升到30台之后,现有外国媒体报导,晶圆代工龙头台积电将抢下这30台EUV中过半的18台数量,这也将使得台积电在

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    2019-02-13 11:17
  • 今年ASML将EUV光刻机的年出货量从18台预计上升到30台

    据快科技报道,今年ASML将EUV光刻机的年出货量从18台预计上升到30台。来自产业链的最新消息称,台积电将包揽ASML这批EUV光刻机中的18台,加上先前的几台,可以在今年3月份启动7nmEUV的量产,推动7nm在其2019年晶圆销售中的占比

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    2019-02-13 09:34
  • 英特尔在7nm将依靠EUV技术实现

    随着晶圆代工厂台积电及记忆体厂三星电子的7纳米逻辑制程均支援极紫外光(EUV)微影技术,并会在2019年进入量产阶段,半导体龙头英特尔也确定正在开发中的7纳米制程会支援新一代EUV技术。英特尔10纳米制程推进不如预期,导致14纳米产能供不应求,

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    2019-01-03 10:55
  • 三星电子宣称引进的EUV设备数量已经足够应付现况,预计明年不会购买EUV

    半导体产业景气转弱又出现新信号!韩国媒体报导,三星电子宣称引进的EUV设备数量已经足够应付现况,预计明年不会购买EUV(极紫外线)设备,未来若要持续引进,将会评估2020年晶圆代工和存储器半导体部门的订单再做决定。根据韩媒《DDaily》报导,

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    2018-12-05 09:17
  • 三星电子比台积电抢先应用EUV曝光设备

    三星电子为夺取台积电客户,正极力发展EUV(极紫外线)的7纳米制程,但台积电也将导入EUV技术,让业界普遍认为,三星要在短时间内达到此目标不太可能。三星电子比台积电抢先应用EUV曝光设备,但基于验证工程稳定化需要时间,三星电子今年10月表示,已

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    2018-11-30 09:21
  • 台积电计划在2020年大规模量产7nm EUV

    早就今年10月份,台积电就曾宣布,7nmEVU已经首次完成芯片流片,这是台积电首次应用EUV技术,虽然仅限少数关键层。消息透露,台积电计划在2020年大规模量产7nmEUV。11月22日消息,台积电7nm目前正在全速开工,将在今年第四季度为台积

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    2018-11-23 09:51
  • 明年台积电采用 EUV(极紫外光技术)的 EUV+制程即将上线

    一年一度的台积电运动会,10月20日在新竹县立体育场展开。这是第一次,刘德音以台积电董事长的身分站在司令台上。订目标今年营收挑战1兆元这一天,刘德音仍然低调,取消了前董事长张忠谋在任时,每年必有的运动会后记者会。但站在司令台上,他清晰明快地宣布

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    2018-11-12 09:55
  • EUV光刻工艺今年正式量产只是一个开始

    Q3临近,各家公司的财报也是悲喜两重天,而全球最大的光刻机公司荷兰ASML公司保持开挂态势,当季营收27.8亿欧元,净利润6.8亿欧元,同比增长13.4%,出货了5台EUV光刻机。据悉,ASML预计全年出货18台,明年将增长到30台,为何光刻机

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    2018-10-19 09:48
  • 三星宣布7 纳米 LPP制程进入量产

    三星周四宣布7纳米LPP制程进入量产,更重要的是领先同业,首度在新制程成功应用极紫外光(EUV)微影技术。三星声明稿指出,7纳米的商业化让客户有能力开发各种全新商品,拓展应用领域至5G、人工智能(AI)、巨型数据中心、物联网、自驾车等。三星表示

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    2018-10-18 15:12
  • 产能提升,ASML明年将出货30台EUV光刻机

    台积电前不久试产了7nmEUV工艺,预计明年大规模量产,三星今天宣布量产7nmEUV工艺,这意味着EUV工艺就要正式商业化了,而全球最大的光刻机公司荷兰ASML为这一天可是拼了20多年。ASML公司日前发布2018年Q3季度财报,当季营收27.

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    2018-10-18 14:20
  • Entegris EUV 1010光罩盒展现极低的缺陷率,已获ASML认证

    业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris日前发布了下一代EUV1010光罩盒,用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。Entegris的EUV1010是与全球最大的芯片制造设备制造商之一的ASML密切合作而开发的,已

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    2018-08-20 13:50

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