7纳米”的相关资讯
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  • 三星电子将于今年6月开始大规模生产7纳米极紫外芯片

    三星电子计划在6月份推出Exynos9825,这是一款应用处理器(AP),采用7纳米EUV工艺制造。这款处理器预计将搭载于GalaxyNote10旗舰机型,该机型将于今年下半年发布。到目前为止,新款GalaxyNote手机搭载的处理器与年初推出

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    2019-04-12 15:31
  • 三星工厂完成,于2020年底前量产7纳米

    在当前全球晶圆制造的先进制程领域中,只剩下台积电、三星以及英特尔可以一较高下。三星虽然早在2018年10月份就已经宣布量产7纳米EUV制程,但实际情况并非如此。因为,就连三星自己的Exynos9820处理器都没用上7纳米EUV制程,这是因为三星

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    2019-04-03 10:25
  • 为何NVIDIA今年不会是台积电7纳米量产客户?

    NVIDIA在今年的GTC大会上,并没有宣布新一代7纳米显卡Ampere(安培)的任何讯息,就连NVIDIA何时可能采用7纳米制程也没有任何时间表。然而NVIDIA总裁暨执行长黄仁勋说,选择12纳米是因为这是对NVIDIA最好的制程,未来会聚焦

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    2019-03-21 14:13
  • 台积电明年上半年7纳米产能利用率无法达到满载预期

    科技业前景低迷,连最上游的晶圆代工也感受寒意?业界传出,苹果明年上半年依惯例降低7纳米投片,原本预期高通、海思的投片量可望补上缺口,但高通及海思近期再度下修展望及投片预估,导致台积电明年上半年7纳米产能利用率无法达到满载预期,甚至可能仅有八、九

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    2018-12-05 09:41
  • 骁龙855由台积电使用7纳米技术生产

    关于高通下一代骁龙800系列处理器将由台积电代工的传言已经持续很长事件,据称这个芯片将被命名为骁龙855,由台积电使用7纳米技术生产。多年来,高通一直依赖三星代工芯片制造部门打造其高端骁龙800系列智能手机处理器,台积电此前曾生产该芯片。据DI

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    2018-06-27 13:43
  • AMD挟7纳米大反攻,野村警告英特尔明年面临硬战

    面对AMD7纳米芯片来势汹汹,分析师认为习惯安逸日子的英特尔似乎尚未意识到威胁,也未有充份准备,明年可能遭遇一场硬战。野村证券旗下研究机构NomuraInstinet上周访谈英特尔执行长科再奇(BrianKrzanich),会后发布报告认为英特

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    2018-06-13 14:37
  • 格芯回应AMD 7纳米制程节点将加入台积电代工一事

    向来是AMD忠实合作伙伴的格芯(Globalfoundries),回应了日前AMD宣布7纳米制程节点将加入台积电代工一事。令人感动的是,为了让AMD产品在两家代工厂之间不会出现太大差异性,格芯将调整相关制程,尽可能与台积电一致,使双方生产的产品

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    2018-06-01 09:47
  • 台积电7纳米制程技术已导入量产,预计第4季7纳米制程比重将超过20%

    据韩国媒体报导,三星装置解决方案部门新设晶圆代工研发中心,在原有存储器、封装及面板等8个研发中心之后,正逐步强化晶圆代工能实力。然而法人认为,台积电制程技术仍居领先地位,全球晶圆代工龙头地位稳固。据悉,台积电7纳米制程技术已导入量产,预计第4季

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    2018-05-22 14:31
  • IC厂商纷纷冲刺7纳米,第一阵营格局已定?

    去年年底,外媒称7nm制程成本太高,仅苹果、三星考虑在2018年采用7nm工艺。如今看来,IC厂商在7nm的布局速度超出预期,Digitimes最新报告显示,麒麟980将采用台积电7nm工艺,有望成为首批量产的7nmSoC。同时,三星提前半年利

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    2018-04-20 09:35
  • 台积电今年7纳米锁定胜局 提前布局5纳米,三星酝酿反击

    全球半导体产业备受瞩目的7纳米制程大战,2018年初由台积电抢先领军登场,尽管三星电子(SamsungElectronics)亦规划7纳米制程,然台积电已拿下逾40个客户,涵盖移动通讯、高速运算、人工智能(AI)等领域,是历年来应用和客户层面最

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    2018-01-05 17:45
  • 大客户需求强劲 台积电7纳米订单明年大爆发

    台积电在苹果等大客户对7纳米制程需求强劲下,积极冲刺明年度7纳米量产脚步,预料将带动台积电新一波成长动能。消息传出,由于台积电7纳米技术独步同业,蓄势待发,明年动能看俏。台积电预定本周四(7日)举行供应链管理论坛,是台积电罕见在一年内连续举行两

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    2017-12-04 13:45
  • KLA-Tencor针对7纳米以下IC的制造推出五款显影成型控制系统

    KLA-Tencor公司今天针对7奈米以下的逻辑和尖端记忆体设计节点推出了五款显影成型控制系统,以帮助晶片製造商实现多重曝光技术和EUV微影所需的严格製程公差。在IC製造厂内,ATL?叠对量测系统和SpectraFilm?F1薄膜量测系统可以针

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    2017-09-15 09:44

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