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  • Mentor与AMD携手生态系统合作伙伴Microsoft Azure及TSMC 在 10 小时内验证了 AMD E

    AMD工程师使用Mentor,aSiemensbusiness提供的经TSMC认证的CalibrenmDRC软件平台在约10小时内完成了对其最大的7nm芯片设计—RadeonInstinctVega20—的物理验证。该验证过程通过使用由AMDE

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    2019-06-17 10:04
  • 新 Mentor PCB 设计平台提供“shift-left” 主动集成验证方法

    Mentor,aSiemensBusiness推出了新的专注于多维验证的Xpedition印刷电路板(PCB)设计平台。如今,系统的复杂性与日俱增,PCB设计人员很难在设计开发的早期阶段发现问题。通过Mentor“Shift-Left主动集成验

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    2019-05-10 14:06
  • Arm中国选择借助 Mentor 的 Questa 验证解决方案来提高功耗效率并加速 MCU 设计的开发

    Mentor,aSiemensbusiness今天宣布,Arm中国已选择Mentor的QuestaPowerAware仿真验证解决方案,以处理下一代低功耗微控制器(MCU)内核开发中的关键任务,从而继续扩大其在高增长市场和应用中的功能验证占有率

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    2019-04-30 11:30
  • Mentor Graphics发布高度统一特性的新版HyperLynx

    MentorGraphics公司今日宣布推出最新版HyperLynx,该版本将信号和电源完整性分析、三维电磁解析和快速规则检查集成到一个统一的环境中。基于备受欢迎的HyperLynx信号完整性/电源完整性(SI/PI)应用程序,该产品首次为设计

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    2016-04-06 10:40
  • Mentor Graphics最新推出具有新配置、调试和硬件支持的Embedded Hypervisor产品

    MentorGraphics推出其最新版本的Mentor?EmbeddedHypervisor产品。该产品包含有系统配置、调试和硬件支持等新功能特性,可用于开发稳健、可靠且安全的应用程序。该解决方案能够支持应用于工业、医疗、汽车、网络、电信和消

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    2014-09-12 08:50
  • Mentor针对MCU和多核应用推出Nucleus RTOS

    MentorGraphics公司日前推出新版本的MentorEmbeddedNucleus实时操作系统(RTOS),这是一款针对嵌入式设备互连的新一代高性能应用程序。NucleusRTOS进程模式已扩展了对于基于ARMCortexM内核的支持。

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    2014-08-21 10:14
  • Mentor Graphics收购电磁模拟方案供应商Nimbic

    MentorGraphics宣布收购麦克斯韦式精确三维全波电磁(EM)模拟解决方案供应商NimbicInc.。Nimbic对复杂电磁场的高精度计算与高端高性能模拟能力,将会扩大和加强Mentor晶片-封装-板级模拟组合。Nimbic的nWave

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    2014-05-29 09:44
  • Mentor Graphics发布兼容符合GENIVI 5.0规范、基于Linux的汽车技术平台

    MentorGraphicsCorporation今天宣布面向基于Linux的车载信息娱乐(IVI)系统开发推出其最新版Mentor嵌入式汽车技术平台(ATP)。通过在本次Genivi5.0合规版本中加入新的图形开发和优化功能,就如同消费类电子

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    2014-02-14 09:51
  • Mentor Graphics工具被纳入台积电16纳米FinFET制程技术参考流程

    MentorGraphics公司今天宣布它已完成其用于台积电16纳米FinFET制程的数字成套工具。台积电16纳米参考流程包含一些新功能,用于Olympus-SoC?布局与布线系统的16纳米设计,以及Calibre?物理验证和可制造性设计(DF

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    2013-09-26 10:18
  • AWSC选择Mentor Graphics Calibre纳米平台验证先进砷化镓

    MentorGraphics公司今天宣布,宏捷科技股份有限公司(AWSC)已经选择Calibre?nmDRC?和nmLVS?产品作为其针对手机和其他无线应用中砷化镓集成电路的金级核签物理验证解决方案。作为其提供的代工服务的一部分,AWSC将为客

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    2013-09-18 09:21
  • Mentor的CalibreLFD获得TSMC的20nm制造工艺认证

    MentorGraphics公司日前宣布CalibreLFD(光刻友好设计)光刻检查工具已获得TSMC的20nmIC制造工艺认证。CalibreLFD可对热点进行识别,还可对设计工艺空间是否充足进行检查。光学临近校正法(OPC)在掩膜阶段无法解

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    2012-09-29 09:40
  • Mentor VNA软件被马自达汽车选用

    MentorGraphics公司日前宣布,马自达汽车有限公司已决定选用VolcanoNetworkArchitect(VNA)软件对其网络带宽使用情况进行验证。VNA工具主要用于车辆CAN及LIN网络的设计,并可使CAN总线上最差的网络环境的数

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    2012-09-28 09:29

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