三星5nm工艺再添新进度！该节点能扳回一城吗？

　　据AnandTech报道，三星晶圆代工厂5LPE(5 nm低功耗早期)工艺已经认证了Cadence和Synopsys的全流程工具，其5LPE工艺将使用极紫外光刻(EUV)技术。

　　三星晶圆代工厂使用Arm Cortex-A53和Arm Cortex-A57内核认证了用于5LPE工艺的Synopsys融合设计平台以及Cadence全流数字解决方案全流程设计工具。该认证意味着这些工具能够满足三星的要求，通过使用它们，芯片设计人员可以让5LPE工艺拥有最佳功率、性能和尺寸(PPA)优势。

　　三星的5LPE工艺依赖于具有新标准单元架构的FinFET晶体管，并使用DUV和EUV步进扫描系统。而且三星所有的7nm专利都能够应用到5LPE。因此，7nm客户过渡到5LPE将极大的降低成本，预先验证的设计生态系统，能够缩短他们5LPE产品的开发时间。

　　与7LPP相比，5LPE的“逻辑效率”提高了25%，芯片开发人员可将芯片设计的功耗降低20%，或将性能提高10%。

　　由三星认证的Candence和Synopsys的工具集包括编译器、验证器、电源电路优化器以及EUV专用工具。

　　相比于7LPP工艺，5LPE拥有更多的EUV层，预计它将用于三星即将在华城的EUV工厂。该生产线预计将耗资 6万亿韩元(46.15亿美元)，将于今年完工，并于明年开始大批量生产。

　　值得一提的是，三星的竞争对手台积电已经宣布，计划在2020年第一季度将开始大规模生产5nm制程。三星也正致力于在明年量产其5nm工艺，力求在该工艺节点能够扳回一城。

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