为赶超台积电,三星争取新一代EUV设备
三星电子副会长李在镕今年 10 月出访荷兰,拜会艾司摩尔 (ASML) 以确保极紫外光 (EUV) 微影设备供应稳定,根据外媒报导指出,ASML 执行长也在上周拜访三星半导体厂,讨论 EUV 设备合作的可能性,引起市场议论。
报导指出,ASML 包含执行长Peter Burnink 在内等多位高层主管,上周访问三星半导体工厂,讨论 EUV 设备供应与开发合作事宜,ASML 主管也与三星半导体事业部主席 Kim Ki-nam 等进行会晤。
业内人士认为,三星已要求 ASML 提供更多 EUV 设备,并针对两家公司,并讨论开发下一代 EUV 设备等合作。
三星主管表示,会议中并没有与 ASML 做出具体投资决定,ASML 主管拜访三星,是基于响应李在镕 10 月份出访 ASML 总部后,所做的回应。
另一方面,ASML 的高阶主管也与SK 海力士总裁李锡熙 (Lee Suk-hee) 进行会晤。消息人士指出,ASML 同样也与 SK 海力士高阶主管针对扩大 EUV 设备供应和促进双方合作进行讨论。
ASML 是全球唯一 EUV 设备制造商,向台积电提供的设备量,比提供给三星的数量多更多;而三星为了追赶台积电,需要更多 EUV 设备,扩大在全球晶圆代工市场中的市占率。
报导指出,三星期望与 ASML 建立技术联盟,以确保扩大下一代 EUV 设备供应,对 ASML 来说,开发下一代 EUV 设备需要大量资金,因此与三星进行投资合作,将有助新一代 EUV 设备发展。
ASML 计划在 2023 年中推出下一代 High-Na EUV 设备原型,该设备价格预计将达每台 5,000 亿韩元,是当前 EUV 设备价格二到三倍。三星希望,能抢在台积电前获得 ASML 更多 EUV 设备,可在新一代制程上取得更多领先地位。
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