为赶超台积电，三星争取新一代EUV设备

为赶超台积电，三星争取新一代EUV设备

三星电子副会长李在镕今年 10 月出访荷兰，拜会艾司摩尔 (ASML) 以确保极紫外光 (EUV) 微影设备供应稳定，根据外媒报导指出，ASML 执行长也在上周拜访三星半导体厂，讨论 EUV 设备合作的可能性，引起市场议论。

报导指出，ASML 包含执行长Peter Burnink 在内等多位高层主管，上周访问三星半导体工厂，讨论 EUV 设备供应与开发合作事宜，ASML 主管也与三星半导体事业部主席 Kim Ki-nam 等进行会晤。

业内人士认为，三星已要求 ASML 提供更多 EUV 设备，并针对两家公司，并讨论开发下一代 EUV 设备等合作。

三星主管表示，会议中并没有与 ASML 做出具体投资决定，ASML 主管拜访三星，是基于响应李在镕 10 月份出访 ASML 总部后，所做的回应。

另一方面，ASML 的高阶主管也与SK 海力士总裁李锡熙 (Lee Suk-hee) 进行会晤。消息人士指出，ASML 同样也与 SK 海力士高阶主管针对扩大 EUV 设备供应和促进双方合作进行讨论。

ASML 是全球唯一 EUV 设备制造商，向台积电提供的设备量，比提供给三星的数量多更多；而三星为了追赶台积电，需要更多 EUV 设备，扩大在全球晶圆代工市场中的市占率。

报导指出，三星期望与 ASML 建立技术联盟，以确保扩大下一代 EUV 设备供应，对 ASML 来说，开发下一代 EUV 设备需要大量资金，因此与三星进行投资合作，将有助新一代 EUV 设备发展。

ASML 计划在 2023 年中推出下一代 High-Na EUV 设备原型，该设备价格预计将达每台 5,000 亿韩元，是当前 EUV 设备价格二到三倍。三星希望，能抢在台积电前获得 ASML 更多 EUV 设备，可在新一代制程上取得更多领先地位。