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EUV光刻-标签
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相较韩国半导体产业最早开始采用EUV光刻技术，相关产业存储器与晶圆代工时程相对落后。但韩国媒体《BusinessKorea》报导，近期中国台湾地区半导体企业加紧投资EUV光刻技术，进一步扩大竞争优势。目前投资中国台湾地区最大外商的美商存储器大厂
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华强电子网消息三星电子（SamsungElectronics）今天宣布，已经出货100万业界首款10nmEUV级（D1x）DDR4DRAM模组。并完成全球客户评估，这为今后高端PC、手机、企业级服务器等应用领域开启新大门。EUV（极紫外光刻）工
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荷兰设备大厂艾司摩尔(ASML)并购股后汉微科，牵动台积电与三星的制程竞赛。设备业者认为，ASML并购汉微科之后，可能协助三星加快7纳米量产，使得台积电与三星的7纳米大战战火更烈。业界观察，三星在10纳米制程失利之后，已宣布提前7纳米量产计划，
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“继续向下推进新的制程节点正变得越来越困难，我不知道它(摩尔定律)还能持续多久。”在与IMEC首席执行官LucvandenHove的访谈中，戈登·摩尔如是说。作为世界领先的独立纳米技术研究中心，5月24日~25日，在比利时布鲁塞尔举办的2016
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ASML的量产型EUV光刻机在TSMC现场初试时出现失误。在2014年加州SanJose举行的先进光刻技术会议上TSMC演讲中透露此消息,由于EUV光源内的激光机械部分出现异位导致光源破裂。因此EUV光刻机停摆。TSMC的下一代光刻部经理Jac2014-02-26 11:06