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  • 台湾地区半导体企业加紧投资EUV光刻技术,进一步扩大竞争优势

    相较韩国半导体产业最早开始采用EUV光刻技术,相关产业存储器与晶圆代工时程相对落后。但韩国媒体《BusinessKorea》报导,近期中国台湾地区半导体企业加紧投资EUV光刻技术,进一步扩大竞争优势。目前投资中国台湾地区最大外商的美商存储器大厂

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    2021-09-06 10:18
  • 三星首推EUV工艺DRAM内存,2030有望超越台积电?

    华强电子网消息三星电子(SamsungElectronics)今天宣布,已经出货100万业界首款10nmEUV级(D1x)DDR4DRAM模组。并完成全球客户评估,这为今后高端PC、手机、企业级服务器等应用领域开启新大门。EUV(极紫外光刻)工

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    2020-03-25 17:44
  • ASML收购汉微科 加速三星与积电7纳米竞争

    荷兰设备大厂艾司摩尔(ASML)并购股后汉微科,牵动台积电与三星的制程竞赛。设备业者认为,ASML并购汉微科之后,可能协助三星加快7纳米量产,使得台积电与三星的7纳米大战战火更烈。业界观察,三星在10纳米制程失利之后,已宣布提前7纳米量产计划,

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    2016-06-20 09:23
  • 后摩尔定律时代 半导体技术将走向何方?

    “继续向下推进新的制程节点正变得越来越困难,我不知道它(摩尔定律)还能持续多久。”在与IMEC首席执行官LucvandenHove的访谈中,戈登·摩尔如是说。作为世界领先的独立纳米技术研究中心,5月24日~25日,在比利时布鲁塞尔举办的2016

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    2016-06-02 09:07
  • EUV遭受新挫折 半导体10nm工艺步伐蹉跎

    ASML的量产型EUV光刻机在TSMC现场初试时出现失误。在2014年加州SanJose举行的先进光刻技术会议上TSMC演讲中透露此消息,由于EUV光源内的激光机械部分出现异位导致光源破裂。因此EUV光刻机停摆。TSMC的下一代光刻部经理Jac

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    2014-02-26 11:06

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