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  • 中芯国际周子学回应:不会炒作股票,光刻机目前如常采购

    7月6日消息据财联社报道,今日上午,中芯国际举办首次公开发行股票并在科创板上市网上投资者交流会。会上,该公司董事长周子学回答提问时表示,坚决不会炒自己的股票,公司将一心一意致力于公司产业的经营。除了进一步解答公司上市进展外,周子学还表示,公司目

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    2020-07-07 09:26
  • ASML一季度接到73台光刻机订单 包括11台极紫外光刻机

    4月27日消息,据国外媒体报道,光刻机制造商阿斯麦的报告显示,在今年的一季度,他们共接到了客户的73台光刻机订单,其中11台是极紫外光刻机。从报告来看,阿斯麦一季度接到的73台光刻机订单中,有72台将是新生产的光刻机,另外1台则是翻新的光刻机。

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    2020-04-28 10:25
  • ASML一季度仅出货4台极紫外光刻机 环比大幅下滑

    4月17日消息,据国外媒体报道,在智能手机等高端设备芯片的工艺提升到5nm之后,能生产5nm芯片的极紫外光刻机就显得异常重要,而作为目前全球唯一能生产极紫外光刻机的厂商,阿斯麦的供应量直接决定了各大芯片制造商5nm芯片的产能。按计划,5nm是在

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    2020-04-17 16:14
  • EUV光刻机运输遇困境 三星3nm工艺量产或推迟

    随着科技行业不断的发展,半导体芯片领域的竞争也趋于白热化,这集中体现在台积电、三星和英特尔这三家公司在7nm、5nm和3nm的追求上。近日,在DigiTimes的一份报告中显示,三星3nm工艺量产的时间可能要延期至2022年。据悉,三星原来计划

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    2020-04-07 16:23
  • ASML将推1nm EUV光刻机 超15年差距国内如何追赶?

    近日,据国外媒体报道,已经推出两款EUV(极紫外)光刻机的阿斯麦公司(ASML)正开始下一代光刻机的研发,并计划在2022年初开始出货。作为在EUV光刻机领域处于垄断地位的ASML,其新品光刻机的推出备受业内瞩目。众所周知,全世界能够生产最先进

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    2020-04-01 10:41
  • 中芯国际从荷兰进口一台大型光刻机

    3月6日消息据羊城晚报报道,3月4日早上8点不到,中芯国际集成电路制造(深圳)有限公司从荷兰进口的一台大型光刻机顺利通过出口加工区场站两道闸口进入厂区,这台机器主要用于企业复工复产后的生产线扩容。截至3月4日,深圳出口加工区内企业复工复产率已达

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    2020-03-07 11:26
  • 光刻机领域王者ASML研发新代机型,2025年1纳米工艺可期

    在2019年,台积电和三星都准备量产7纳米的EUV工艺了,并且明年也会是5纳米工艺的一个重要节点。要知道,在半导体制造的工艺中,最重要而且最复杂的就是光刻步骤,往往光这部分的成本就能占到33%左右,所以半导体想要有突破性的发展,和光刻机的提升密

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    2019-07-04 10:14
  • 上海政府:芯片设计水平已达7nm 光刻机国际先进水平

    半导体是国内目前大力发展的产业,也是国内公司对美国依赖最多的行业之一。在设计、制造及封装三个环节中,国内公司在封测行业发展的还不错,江苏长电科技是全球第三大封测公司,TOP10厂商中有三家国内公司。国内比较薄弱的是半导体设计及制造,尤其是半导体

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    2019-05-22 15:12
  • 今年ASML将EUV光刻机的年出货量从18台预计上升到30台

    据快科技报道,今年ASML将EUV光刻机的年出货量从18台预计上升到30台。来自产业链的最新消息称,台积电将包揽ASML这批EUV光刻机中的18台,加上先前的几台,可以在今年3月份启动7nmEUV的量产,推动7nm在其2019年晶圆销售中的占比

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    2019-02-13 09:34
  • 光刻机是芯片制造中用到的最金贵的机器,要达到5纳米曝光精度难比登天

    近来有网络媒体称,“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机,性能优良,将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”,并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁,第一次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等。中微公司的刻蚀机的确水平一流,但夸大阐述其战略

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    2019-02-13 09:24
  • 荷兰光刻机巨头ASML:中国需求强劲,看好对华出口

    荷兰光刻机霸主阿斯麦(ASML)公司公布了2018年第四季度及全年业绩报告。观察者网注意到,该公司首席执行官彼得·维尼克(PeterWennink)在当天的声明中特别指出,中国对其产品的需求强劲,继续看好对中国的出口。作为目前全球最先进极紫外(

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    2019-01-24 11:26
  • 网文夸大其词 人民日报批评“中国光刻机伟大突破“的报道不实

    前不久,中科院光电技术研究所承担的一项国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。研发人员介绍,这台22纳米分辨率光刻机在加工大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器等纳米功能器件上具有明显优势。但是,这台光刻机要想应用于芯片,还要攻克

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    2018-12-27 09:21

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