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  • 1纳米可期!ASML研发第二代EUV光刻机

    半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中,台积电之所以能够领先,一个很重要的原因就是EUV技术,在半导体制造的工艺中,这部分的成本就能占到33%左右。目前最先进的光刻机就是来自这

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    2019-07-04 14:05
  • Molex推出第二代HOZOX HF2 EMI杂讯抑制片

    全球领先的电子解决方案製造商Molex推出可包裹电缆和其他高频设备的新一代高性能HOZOXHF2电磁干扰(EMI)杂讯抑制片。这款柔软的复合片材料具有磁性和导电性能,可抑制高达40GHz的EMI杂讯。Molex全球产品经理TakutoUeda表

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    2017-07-05 09:42
  • 东芝发表第二代碳化硅萧特基位障二极体

    东芝半导体与储存产品公司,近期发表第二代650V碳化硅(SiC)萧特基位障二极体(SBDs),该产品提升了公司现行产品的涌浪顺向电流(IFSM)约70%。8个碳化硅萧特基位障二极体的新产品线也即将出货。此款碳化硅萧特基位障二极体,採用东芝第二代

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    2017-02-27 09:51
  • RFaxis开始量产第二代纯CMOS射频前端集成电路(RFeIC)

    专注于为无线连接和蜂窝移动市场提供创新型新一代射频(RF)解决方案的无晶圆半导体公司RFaxis日前宣布,该公司将于2012年第四季度开始其第二代纯CMOS射频前端集成电路(RFeIC)的批量生产。新解决方案将服务于智能手机和平板电脑、WLAN

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    2012-09-26 09:19

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