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1纳米可期!ASML研发第二代EUV光刻机
半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中,台积电之所以能够领先,一个很重要的原因就是EUV技术,在半导体制造的工艺中,这部分的成本就能占到33%左右。目前最先进的光刻机就是来自这
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Molex推出第二代HOZOX HF2 EMI杂讯抑制片
全球领先的电子解决方案製造商Molex推出可包裹电缆和其他高频设备的新一代高性能HOZOXHF2电磁干扰(EMI)杂讯抑制片。这款柔软的复合片材料具有磁性和导电性能,可抑制高达40GHz的EMI杂讯。Molex全球产品经理TakutoUeda表
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RFaxis开始量产第二代纯CMOS射频前端集成电路(RFeIC)
专注于为无线连接和蜂窝移动市场提供创新型新一代射频(RF)解决方案的无晶圆半导体公司RFaxis日前宣布,该公司将于2012年第四季度开始其第二代纯CMOS射频前端集成电路(RFeIC)的批量生产。新解决方案将服务于智能手机和平板电脑、WLAN
2012-09-26 09:19