中科院微电子所：研究团队直接支撑积塔在0.18纳米技术节点的量产工艺研发

中科院微电子所：研究团队直接支撑积塔在0.18纳米技术节点的量产工艺研发

　　据中国科学院微电子研究所消息，目前，微电子所韦亚一研究员团队已帮助积塔半导体完成5轮OPC工作并顺利流片，直接支撑了积塔半导体在0.18纳米技术节点的量产工艺研发，同时帮助积塔半导体建立OPC研发团队。

　　2018-2019年度，微电子所韦亚一研究员率领先导中心计算光刻研发中心团队与上海积塔半导体有限公司，围绕集成电路先进光刻制造光学邻近效应修正开展了深度合作。

　　合作中，韦亚一团队与上海积塔半导体就实际生产面临的光学临近修正问题，根据其工艺和产品特征，开展了光源优化、OPC建模、版图优化以及硅验证等工作。

　　本次合作是微电子韦亚一团队继与中芯国际、长江存储等国内集成电路制造企业合作之后，再次对实际制造产业企业进行指导，帮助企业建立光学临近效应的修正流程，助其突破关键技术实现量产。

　　上海积塔半导体项目位于临港重装备产业区，总投资359亿元，是上海市政府与中国电子信息产业集团合作协议的重要内容，也是其中第一个落地的重大产业项目。项目目标是建设月产能6万片的8英寸生产线和5万片12英寸特色工艺生产线，将打造面向工业控制和汽车电子等高端应用的特色工艺生产线。

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