打破进口垄断 国产半导体设备日趋成熟
经过近几年的发展，我国半导体设备产业取得了一定成绩，可以说已经打破了高端半导体设备完全依靠进口的局面，部分国产设备已日趋成熟。
七星华创：首推8英寸立式扩散炉及第五代TFT-LCD设备
北京七星华创电子股份有限公司(七星电子)是国内集成电路设备、太阳能电池片设备、TFT-LCD设备等领域的主要制造商。目前公司已形成氧化扩散系统、CVD系统、干法刻蚀系统及清洗系统4大系列产品，通过不断的自主创新，公司产品已应用于大规模集成电路、电力电子器件、分立器件、光电子器件、MEMS和太阳能电池等领域。
近年来，七星电子研制的国内第一台8英寸立式扩散炉通过了国家验收，即将进入生产线通线量产；自主研制的为SOI工艺特定设计的国内第一台超高温扩散炉也进入了生产线，温度之高、控温之精确和稳定性达到了国内领先水平。
另外，在国内太阳能电池片制造的前道工序设备中已逐渐成为主要的供应商。公司主要产品太阳能电池片湿法腐蚀和清洗设备(包括自动制绒面设备、硅片自动清洗设备、自动PSG祛除设备，石英附件清洗设备)、扩散设备、化学气相淀积设备以及高温烧结炉在国产设备市场上具有很强的竞争力，已经装配到国内多条生产线上。针对太阳能电池片设计的清洗设备，可靠性高、产能大。完全满足太阳能电池大规模生产的行业特点；8英寸立式扩散/氧化系统具有较好的性价比；管式PECVD的工艺结果也已接近世界先进水平。
七星电子在半导体集成电路行业、太阳能电池等行业都取得了不俗成绩的同时，又把眼光投放到TFT-LCD设备上来。目前，公司研制生产的TFT-LCD磨边后清洗机和上下料传送代设备已率先进入5代生产线。根据国内TFT-LCD的发展趋势，公司正在积极投入六代线的相关设备的设计研发工作。
中电科技集团第45所：今年底实现LED设备批量供货
中国电子科技集团公司第45研究所是我国专门从事半导体专用设备研究、开发、制造的大型研究所，国家IC后封装设备产业化示范工程项目承担单位。经过近两年的研究，成功地开发出LED芯片键合机、8-16线/秒引线键合机。
经过一年半的努力，现已成功开发出了一种适合于垂直式LED制程的DB-8002粘片机，该机的粘片速度达到了每秒2只，生产效率每小时7000只以上，粘片精度正负50微米，其指标全面达到国外同类机型的水平。并且已有两台交付国内某知名光电公司和国外著名品牌机型并线生产，进行考核试验，已经过了5个月的工艺考核，运行情况良好。预计到2006年年底，该机将完成30台的批量生产，提供给国内LED封装厂商，从而使研制的设备实现了真正意义上的自主创新。
同样，根据LED芯片键合设备的经验，在LED引线键合机、粘片机商品化样机的研制中，取得了关键单元技术突破，并掌握了9项发明专利技术。
中电科技集团第48所：加强离子注入机研发和产业化
中国电子科技集团公司第48研究所是国家级微电子、太阳能电池、光电材料、电力电子、磁性材料等专用设备研发、生产的专业机构。经过数十年的奋斗，48所已成为国内半导体设备的主要供应商，太阳能电池制造设备、电子工业窑炉的最大供应商，国家离子注入机等半导体专用设备研发中心和产业化基地，承担了研制高水平离子注入机的国家863计划重大专项。
数十年来，48所始终立足于行业科技发展的前端，共取得重大科研成果120余项，其中填补国内空白项目25项，达到国际先进水平36项，列为国家替代进口项目112项。48所连续承担国家微电子、光电子重大科技攻关项目，效果显著，累计向用户提供了5000多台(套)大型关键设备，广泛应用于相关行业主要企业的数十条生产线上，并出口欧、亚。
中科信：100nm大角度离子注入机β机完成在线测试
北京中科信电子装备有限公司是在科技部、北京市人民政府和中国电子科技集团公司的大力支持下成立，专门从事高端离子注入机设备的总体设计技术、系统集成技术和关键单元技术及其相关工艺设备研制、开发、生产和服务的企业。是国内唯一一家提供集成电路生产线关键设备离子注入机的研制、销售、安装、翻新、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高科技术企业。
公司承担的“十五”国家863计划重大专项“100nm大角度离子注入机”的研制任务取得了巨大成功，其中100nm大角度离子注入机β机完成了大生产线在线测试，各项指标均达到生产线要求。这是国产自主研发的高端集成电路生产装备首次进入主流大生产线实现器件生产。共申请137项专利、获得7项软件版权。
中科院微电子所：成功开发出GaN和SiC刻蚀技术
中国科学院微电子研究所是国内最早开展微细加工技术研发的单位，在微细加工设备领域，坚持走自主创新之路，十分重视科技成果的应用和转化，不断推出先进的新产品，为许多科研单位的创新提供了支撑条件。
他们先后研制成功ME-3型多功能磁增强反应离子刻蚀机、ICP高密度等离子刻蚀机、SP系列磁控溅射镀膜机、HQ-3型高质量PECVD机、太阳能电池刻边机等。ME-3型多功能磁增强反应离子刻蚀机独创的永久磁场旋转结构设计提高了刻蚀速率和均匀性，还具有RIE和MERIE两种模式。因此，直到现在，仍深受用户欢迎。
ICP-98A和ICP98-C刻蚀机是“九五”国家重点科技攻关成果。该机拥有自己“塔式耦合反应室”的专利，使刻蚀均匀性在4英寸片内可达到±2%。他们研究成功能刻蚀0.1微米线条和接近90度的Si陡直刻蚀技术。近年来，针对国际前沿研究的需求，成功地开发出GaN和SiC的刻蚀技术。
针对许多PECVD设备成膜质量差，粉末缺陷多的问题，研制成功了HQ-3型高质量平板式PECVD设备。
中科院光电技术研究所：7种类型光刻设备实现产业化
微电子光刻设备是中科院光电技术研究所的主要研究方向之一。光电所从“六五”国家科技攻关项目——“接近接触式光刻机”研制开始，20多年来先后承担了国家科技攻关和中科院重大项目等11项微电子光学装备，取得了显著成果。如光电所研制的1.5μm～2μm实用型分步重复投影光刻机首次在我国完成CMOS2000门门阵电路工艺考核，成品率大于50%；0.8μm～1μm光刻机于1997年在中科院微电子所生产线上完成工艺考核，成功地刻出0.8μm线条，成品率大于80%；0.7μm～0.8μmI线投影光刻曝光系统采用我国自行研制的大数值孔径投影物镜，成为世界上为数不多的能制造这种镜头的国家之一。
通过攻关项目研究，该所掌握了许多关键技术，如：大数值孔径投影物镜(i线、准分子)的设计和制作；高强度、高均匀照明系统，在100mm×100mm视场内照明均匀性优于2%；暗场光电同轴自动对准、高精度CCD实时调平调焦技术、平面气浮三维快速定位工件台技术以及提高光刻分辨力的波前工程技术等。
近年来光电所加强科技攻关的成果转换，先后开发成功URE-2000A、URE-2000B、URE-2000/25、URE-2000/17系列紫外深度曝光机(光刻分辨力达0.8μm，最大胶厚1mm)、URE-2000S双面深度光刻机、9英寸URE-2000D大面积曝光机、430mm×430mm超大面积光刻机、URE-2000L连续浮雕微光学扫描光刻机共7种类型，已经销售100余台套。
沈阳科仪：开展IC装备整机零部件研发和产业化
中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司(沈阳科仪)是我国真空行业唯一的国家级工程中心——国家真空仪器装置工程技术研究中心的依托单位，2001年由中国科学院直属科研事业单位整体转制为有限公司。
几十年来，沈阳科仪以超高真空、超洁净真空为技术基础，研制开发了多种高技术尖端真空仪器设备，主营产品包括：分子束外延(MBE)/激光分子束外延(LMBE)设备、电子束/离子束蒸发、磁控溅射、PECVD、真空炉、真空获得设备及各种阀门等，其中多项产品的关键技术处于国际先进、国内领先水平，是国家指定的分子束外延技术开发实验基地和多功能电子能谱仪生产基地。
2005年，沈阳科仪公司与自动化所的AMT公司合作，共同承接了美国AKT公司的大型平板显示器制造设备中“大型平板真空反应室高精度零部件”加工订单，首批订货已经通过检测验收，证明了沈阳地区加工制造IC装备零部件的能力与优势。
目前，“IC装备超洁净真空获得系统”等多个IC装备有关项目分别得到国家发改委、科技部、中国科学院立项支持，辽宁省、沈阳市、沈阳国家高新技术产业开发区分别将“IC装备PECVD设备”列入地方“十一五”重大专项首批启动项目给予支持。以上项目的顺利实施为公司介入IC装备制造业奠定了基础。
新松公司：实现IC洁净环境搬运机器人国产化
新松机器人自动化股份有限公司核心业务主要有工业机器人技术及装备、仓储物流自动化技术及装备、工业自动化技术及装备等。
随着国内半导体行业、电子元部件加工业的迅猛发展，洁净环境机器人及传输生产线系统的需求在不断地增大，因此新松公司成立了IC装备部进行洁净(真空)环境的机器人和相关自动化设备的开发和应用。IC装备部产品范围包括洁净(真空)环境的机器人系列产品，自动对准装置、自动提升装置、SMIF(FOUP)接口设备和洁净环境下自动传输平台以及洁净环境下的镀膜机器人生产线、AGV柔性搬运传输生产线等，可用于光刻机、刻蚀机、离子注入机、CMP和PVD等IC装备等场合。IC装备部目前已开发完成了针对200mmTRACK机的洁净环境搬运机器人，而用于刻蚀机的真空环境搬运机器人也正在开发中。
七星华创：首推8英寸立式扩散炉及第五代TFT-LCD设备
北京七星华创电子股份有限公司(七星电子)是国内集成电路设备、太阳能电池片设备、TFT-LCD设备等领域的主要制造商。目前公司已形成氧化扩散系统、CVD系统、干法刻蚀系统及清洗系统4大系列产品，通过不断的自主创新，公司产品已应用于大规模集成电路、电力电子器件、分立器件、光电子器件、MEMS和太阳能电池等领域。
近年来，七星电子研制的国内第一台8英寸立式扩散炉通过了国家验收，即将进入生产线通线量产；自主研制的为SOI工艺特定设计的国内第一台超高温扩散炉也进入了生产线，温度之高、控温之精确和稳定性达到了国内领先水平。
另外，在国内太阳能电池片制造的前道工序设备中已逐渐成为主要的供应商。公司主要产品太阳能电池片湿法腐蚀和清洗设备(包括自动制绒面设备、硅片自动清洗设备、自动PSG祛除设备，石英附件清洗设备)、扩散设备、化学气相淀积设备以及高温烧结炉在国产设备市场上具有很强的竞争力，已经装配到国内多条生产线上。针对太阳能电池片设计的清洗设备，可靠性高、产能大。完全满足太阳能电池大规模生产的行业特点；8英寸立式扩散/氧化系统具有较好的性价比；管式PECVD的工艺结果也已接近世界先进水平。
七星电子在半导体集成电路行业、太阳能电池等行业都取得了不俗成绩的同时，又把眼光投放到TFT-LCD设备上来。目前，公司研制生产的TFT-LCD磨边后清洗机和上下料传送代设备已率先进入5代生产线。根据国内TFT-LCD的发展趋势，公司正在积极投入六代线的相关设备的设计研发工作。
中电科技集团第45所：今年底实现LED设备批量供货
中国电子科技集团公司第45研究所是我国专门从事半导体专用设备研究、开发、制造的大型研究所，国家IC后封装设备产业化示范工程项目承担单位。经过近两年的研究，成功地开发出LED芯片键合机、8-16线/秒引线键合机。
经过一年半的努力，现已成功开发出了一种适合于垂直式LED制程的DB-8002粘片机，该机的粘片速度达到了每秒2只，生产效率每小时7000只以上，粘片精度正负50微米，其指标全面达到国外同类机型的水平。并且已有两台交付国内某知名光电公司和国外著名品牌机型并线生产，进行考核试验，已经过了5个月的工艺考核，运行情况良好。预计到2006年年底，该机将完成30台的批量生产，提供给国内LED封装厂商，从而使研制的设备实现了真正意义上的自主创新。
同样，根据LED芯片键合设备的经验，在LED引线键合机、粘片机商品化样机的研制中，取得了关键单元技术突破，并掌握了9项发明专利技术。
中电科技集团第48所：加强离子注入机研发和产业化
中国电子科技集团公司第48研究所是国家级微电子、太阳能电池、光电材料、电力电子、磁性材料等专用设备研发、生产的专业机构。经过数十年的奋斗，48所已成为国内半导体设备的主要供应商，太阳能电池制造设备、电子工业窑炉的最大供应商，国家离子注入机等半导体专用设备研发中心和产业化基地，承担了研制高水平离子注入机的国家863计划重大专项。
数十年来，48所始终立足于行业科技发展的前端，共取得重大科研成果120余项，其中填补国内空白项目25项，达到国际先进水平36项，列为国家替代进口项目112项。48所连续承担国家微电子、光电子重大科技攻关项目，效果显著，累计向用户提供了5000多台(套)大型关键设备，广泛应用于相关行业主要企业的数十条生产线上，并出口欧、亚。
中科信：100nm大角度离子注入机β机完成在线测试
北京中科信电子装备有限公司是在科技部、北京市人民政府和中国电子科技集团公司的大力支持下成立，专门从事高端离子注入机设备的总体设计技术、系统集成技术和关键单元技术及其相关工艺设备研制、开发、生产和服务的企业。是国内唯一一家提供集成电路生产线关键设备离子注入机的研制、销售、安装、翻新、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高科技术企业。
公司承担的“十五”国家863计划重大专项“100nm大角度离子注入机”的研制任务取得了巨大成功，其中100nm大角度离子注入机β机完成了大生产线在线测试，各项指标均达到生产线要求。这是国产自主研发的高端集成电路生产装备首次进入主流大生产线实现器件生产。共申请137项专利、获得7项软件版权。
中科院微电子所：成功开发出GaN和SiC刻蚀技术
中国科学院微电子研究所是国内最早开展微细加工技术研发的单位，在微细加工设备领域，坚持走自主创新之路，十分重视科技成果的应用和转化，不断推出先进的新产品，为许多科研单位的创新提供了支撑条件。
他们先后研制成功ME-3型多功能磁增强反应离子刻蚀机、ICP高密度等离子刻蚀机、SP系列磁控溅射镀膜机、HQ-3型高质量PECVD机、太阳能电池刻边机等。ME-3型多功能磁增强反应离子刻蚀机独创的永久磁场旋转结构设计提高了刻蚀速率和均匀性，还具有RIE和MERIE两种模式。因此，直到现在，仍深受用户欢迎。
ICP-98A和ICP98-C刻蚀机是“九五”国家重点科技攻关成果。该机拥有自己“塔式耦合反应室”的专利，使刻蚀均匀性在4英寸片内可达到±2%。他们研究成功能刻蚀0.1微米线条和接近90度的Si陡直刻蚀技术。近年来，针对国际前沿研究的需求，成功地开发出GaN和SiC的刻蚀技术。
针对许多PECVD设备成膜质量差，粉末缺陷多的问题，研制成功了HQ-3型高质量平板式PECVD设备。
中科院光电技术研究所：7种类型光刻设备实现产业化
微电子光刻设备是中科院光电技术研究所的主要研究方向之一。光电所从“六五”国家科技攻关项目——“接近接触式光刻机”研制开始，20多年来先后承担了国家科技攻关和中科院重大项目等11项微电子光学装备，取得了显著成果。如光电所研制的1.5μm～2μm实用型分步重复投影光刻机首次在我国完成CMOS2000门门阵电路工艺考核，成品率大于50%；0.8μm～1μm光刻机于1997年在中科院微电子所生产线上完成工艺考核，成功地刻出0.8μm线条，成品率大于80%；0.7μm～0.8μmI线投影光刻曝光系统采用我国自行研制的大数值孔径投影物镜，成为世界上为数不多的能制造这种镜头的国家之一。
通过攻关项目研究，该所掌握了许多关键技术，如：大数值孔径投影物镜(i线、准分子)的设计和制作；高强度、高均匀照明系统，在100mm×100mm视场内照明均匀性优于2%；暗场光电同轴自动对准、高精度CCD实时调平调焦技术、平面气浮三维快速定位工件台技术以及提高光刻分辨力的波前工程技术等。
近年来光电所加强科技攻关的成果转换，先后开发成功URE-2000A、URE-2000B、URE-2000/25、URE-2000/17系列紫外深度曝光机(光刻分辨力达0.8μm，最大胶厚1mm)、URE-2000S双面深度光刻机、9英寸URE-2000D大面积曝光机、430mm×430mm超大面积光刻机、URE-2000L连续浮雕微光学扫描光刻机共7种类型，已经销售100余台套。
沈阳科仪：开展IC装备整机零部件研发和产业化
中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司(沈阳科仪)是我国真空行业唯一的国家级工程中心——国家真空仪器装置工程技术研究中心的依托单位，2001年由中国科学院直属科研事业单位整体转制为有限公司。
几十年来，沈阳科仪以超高真空、超洁净真空为技术基础，研制开发了多种高技术尖端真空仪器设备，主营产品包括：分子束外延(MBE)/激光分子束外延(LMBE)设备、电子束/离子束蒸发、磁控溅射、PECVD、真空炉、真空获得设备及各种阀门等，其中多项产品的关键技术处于国际先进、国内领先水平，是国家指定的分子束外延技术开发实验基地和多功能电子能谱仪生产基地。
2005年，沈阳科仪公司与自动化所的AMT公司合作，共同承接了美国AKT公司的大型平板显示器制造设备中“大型平板真空反应室高精度零部件”加工订单，首批订货已经通过检测验收，证明了沈阳地区加工制造IC装备零部件的能力与优势。
目前，“IC装备超洁净真空获得系统”等多个IC装备有关项目分别得到国家发改委、科技部、中国科学院立项支持，辽宁省、沈阳市、沈阳国家高新技术产业开发区分别将“IC装备PECVD设备”列入地方“十一五”重大专项首批启动项目给予支持。以上项目的顺利实施为公司介入IC装备制造业奠定了基础。
新松公司：实现IC洁净环境搬运机器人国产化
新松机器人自动化股份有限公司核心业务主要有工业机器人技术及装备、仓储物流自动化技术及装备、工业自动化技术及装备等。
随着国内半导体行业、电子元部件加工业的迅猛发展，洁净环境机器人及传输生产线系统的需求在不断地增大，因此新松公司成立了IC装备部进行洁净(真空)环境的机器人和相关自动化设备的开发和应用。IC装备部产品范围包括洁净(真空)环境的机器人系列产品，自动对准装置、自动提升装置、SMIF(FOUP)接口设备和洁净环境下自动传输平台以及洁净环境下的镀膜机器人生产线、AGV柔性搬运传输生产线等，可用于光刻机、刻蚀机、离子注入机、CMP和PVD等IC装备等场合。IC装备部目前已开发完成了针对200mmTRACK机的洁净环境搬运机器人，而用于刻蚀机的真空环境搬运机器人也正在开发中。