晶圆代工、DRAM厂买微影设备

来源:集邦科技 作者: 时间:2009-07-17 17:35

     由于台积电(2330)与联电(2303)等晶圆代工厂的45/40纳米订单强劲,但双重曝影(double patterning)浸润式微影(immersion)产能不足,所以已扩大下单采购相关设备。另外,DRAM厂下半年将进入50/40纳米世代的微缩竞赛,对浸润式微影设备需求大增,除了韩国及日本业者开始采购外,美光阵营的南亚科(2408)及华亚科(3474)也已下单。
    
     随着40纳米良率问题陆续获得解决,台积电及联电近期在45/40纳米的接单上已有斩获,如台积电已获得英伟达(NVIDIA)、超微、巨积(LSI)、富士通、耐特逻辑(NetLogic)、阿尔特拉(Altera)等客户订单,联电也开始为赛灵思(Xilinx)代工最新Virtex-6可程序逻辑组件(FPGA)订单。
    
     由于45/40纳米制程的主流是采用双重曝影的浸润式微影技术,但晶圆双雄自去年下半年至今年中旬,为了因应金融海啸严重冲击,均冻结资本支出,直到今年第二季后,才陆续开始增加设备采购。但因45/40纳米订单急速涌入,台积电及联电已向微影设备大厂荷商艾司摩尔(ASML)下单采购新设备。
    
     艾司摩尔昨日公布第二季财报,营收约达2.77亿欧元,但仍亏损1.04欧元,不过艾司摩尔对下半年景气看法转趋乐观,第三季营收预计可达4.5亿欧元,季增率达62%,并获得15台微影设备新单。
    
     艾司摩尔在法说会中表示,晶圆代工厂的45/40纳米订单强劲,为了提高产能,下半年对微影设备的需求也转强,公司对半导体景气复苏更具信心。另外,艾司摩尔也看好存储器厂明年将大量转进浸润式制程,微影设备市场将有强劲复苏力道。
    
     由于DRAM价格一直没办法回到成本以上,全球DRAM厂已开始配合英特尔的处理器规格,转进价格较高且可获利的DDR3产品,并积极进行50/40纳米制程微缩,而NAND供应商如东芝、三星等,也开始着手进行30/20纳米世代的制程研发。而以国内来说,南亚科及华亚科在解决了募资问题、顺利取得资金后,已经与合作对象美光,共同进行50纳米微缩,并采购了数台浸润式微影设备。

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