联电为提高先进制程购买设备
在4月29日的季度联电投资者会上公司总裁孙世伟表示公司将努力提高65纳米及以下制程的销售额。公司的目标在2010年下半年其65纳米及 40/45纳米的销售额分别占营收的30-40%与3％。
联电透露在2010年Q1其65纳米及以下工艺的销售额比上个季度增加1％达到其总营收的18％。而台积电的财报显示其相应的65/40纳米制程的销售额占其总营收达41％。
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孙估计到Q2未,其65/40纳米制程销售额可上升到占25％。孙同时指出联电在40纳米逻辑电路工艺中己实现稳定的成品率,公司已开始进行45纳米低功耗工艺的量产。
孙同时表示联电的28纳米，后栅高k/金属栅(HK/MG)工艺进展顺利,预计2010年底可以实现IP引导线的试产。它补充道,联电从今年初开始与客户共同开展20纳米工艺制程的研发。
联电在台南科学园区的Fab12A,其12英寸生产线在今年第三季度己经完成第三期的设备安装,并预期在第四季开始实现量产。在新加坡的 Fab12i,同样从今年第二季度开始己进行65/55纳米产品量产,并实现产能的扩大。
孙同样也提高了今年全球半导体及代工市场的预测，认为分别将增长20及30％，而之前的预测分别是13-15％与25-28％。