新思科技联合行业权威建立先进工艺技术实验室

新思科技联合行业权威建立先进工艺技术实验室

全球领先的电子器件和系统设计、验证和制造软件及知识产权（IP）供应商新思科技公司，与上海集成电路研发中心有限公司（ICRD）15日宣布， 二者共同建立的“ICRD - Synopsys先进工艺技术联合实验室”当日盛大成立，该实验室将致力于提升中国半导体产业的先进制造能力。
       该联合实验室将结合双方已有的技术优势和产业资源，从为中国市场提供它所需且对先进节点 (advanced node) 工艺具有重要影响的光学临近效应修正（OPC）的仿真模型及验证程式出发，共同研究和开发与高阶工艺相关的各项技术。           
       随着当前中国集成电路产业发展速度的进一步加快，国内集成电路设计与晶圆代工等行业对先进节点(advanced node)工艺技术的需求也快速增长，新的联合实验室将致力于通过满足行业对相关技术需求，推动中国集成电路产业发展。该联合实验室设立于上海集成电路研发中心内，由一个专注于先进工艺开发和研究的本地团队负责运行，Synopsys与上海集成电路研发中心都将投入相应的资源和技术力量，打造一个先进工艺开发的公共服务平台，目标为国内领先的半导体制造企业如中芯国际、华力微电子等提供先进技术支持。           
       “作为国家级集成电路研发中心，上海集成电路研发中心与Synopsys等世界领先的半导体企业展开了多项合作。”上海集成电路研发中心总裁赵宇航说，“上海集成电路研发中心专注于为半导体产业提供高层次的研究与开发服务，与Synopsys建立的联合实验室将极大地提升我们的先进工艺技术公共服务平台。”             
       “中国在全球半导体产业中的特有定位，已经并将持续带来独特的工艺挑战。”Synopsys资深副总裁兼硅工程事业部（Silicon Engineering Group）总经理Howard Ko表示，“通过该联合实验室以及与上海集成电路研发中心深入的合作伙伴关系，Synopsys将建立起一种更加高效地为中国半导体客户提供先进工艺技术及解决方案支持的途径。”（责编：陶圆秀）