2014年全球半导体资本设备开支将增12.2%

2014年全球半导体资本设备开支将增12.2%

　    4月26日，据市场研究公司Gartner预计，今年的全球半导体资本设备开支将在去年的基础上增长12.2%，达到375亿美元。由于这个行业已经开始从经济衰退中恢复，而且在2018年之前各个分支领域的总开支都将保持增长，预计今年的资本开支将增长5.5%。

　　Gartner 研究副总裁鲍勃约翰逊(Bob Johnson)称：“虽然2013年的资本开支超过了晶元设备(WFE)开支，但是今年的情况可能会刚好反过来。今年的资本开支总额将增长5.5%，而晶元设备开支将增长13%，原因是各大厂商推迟了新厂建设计划并专注于扩容。预计2013年第四季度资本设备开支的强劲增长将在第一季度继续延续，之后将保持持平直至年底。从长期来说，增长将持续到2015年底，然后在2016年略有下滑，然后再恢复增长直至2018年。”

　　在整个预测期内，逻辑开支仍将是推动资本开支增长的关键因素;但是由于移动市场将会趋软，它的增长速度将低于内存开支增长速度。在2018年之前，内存将是资本开支中增长速度最快的项目，其中NAND闪存将是主要的增长动力。

　　资本开支高度集中于几家公司。资本开支最高的三家公司分别是英特尔、台积电和三星，它们的资本开支总和在总开支中所占比例仍将超过50%。预计资本开支最高的五家厂商的开支总和在总开支中所占比例将超过64%，而资本开支最高的十家厂商的开支总和在总开支中所占比例将超过78%。

　　Gartner补充说，它预计2015年半导体资本开支将增长10%，然后在2016年减少3.3%，但2017年和2018年将再度恢复增长。

　　半导体库存和市场疲软在2013年底时压低了利用率。虽然来自智能手机和媒体平板电脑的需求将推高逻辑生产的需求，但还不足以将总利用率提高到市场期待的水平。Gartner预计，随着芯片生产需求的恢复，利用率将在2014年继续增长，总体利用率将在2014年恢复到正常水平。

　　晶元制造产能利用率的变化与2013年底库存增加有关，一直保持在80%左右。产能利用率将在2014年有所恢复，预计到年底时将达到90%。最高利用率将在2014年全年一直保持在95%左右，这将催生一个积极的资本投资环境。