北方微电子PECVD设备竞逐OFweek2014最佳LED设备技术创新奖

　　OFweek半导体照明网讯 一年一度的LED行业盛会"OFweek LED Awards2014行业年度评选"目前企业参评报名已近入尾声，并即将进入"用户投票及专家评选阶段"(2014年9月15日-2014年10月15日)。OFweek LED Awards评选涵括LED产业链的上游至下游，被誉为业界"奥斯卡奖"，影响颇深。该评选由OFweek中国高科技行业门户主办、OFweek半导体照明网及OFweek照明网共同承办，已连续举办第四年，是OFweek2014年高科技行业重要的评选活动之一。

　　此次评选北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司将携NMC EPEETM 550 PECVD(等离子体增强化学气相沉积系统)产品参加"最佳LED设备技术创新奖"评选。

　　NMC EPEETM 550 PECVD

　　北方微电子公司于2013年1月开始布局LED领域的PECVD设备开发，历经1年时间完成设备开发及优化，于2014年4月形成首台销售，5月份客户端调试，6月初实现量产。6月份第二台设备同时实现销售，1个月后实现稳定量产。设备工艺结果能够满足客户不同芯片工艺的需求，生产运行稳定，获得了客户的高度认可。

　　NMC EPEETM 550 PECVD是一款面向LED领域的大产能PECVD设备，适用于LED芯片制造中的保护层、SWE掩膜层、CBL等工艺制程。，可用于SiO2、SiNx、SiONx等高质量薄膜的沉积。该设备具有运行稳定，、维护简单快捷，产能输出大，沉积膜层质量优异等特点。机台运行的主要过程包括：人工手动上片，自动合盖，执行工艺开始，设备自动按照预设的菜单，完成腔室状态检测，薄膜工艺沉积等多项内容。工艺完毕，腔室经充分吹扫后切换至大气状态，自动开盖后，人工下片。重复此循环，进行批量生产。

　　该设备整机集成度较高，控制系统和Gasbox均集成在主机内，整体占地小，集成度高，维护操作方便;工艺进气方式为中心进气、双层匀流，反应腔为中心下抽结构，能够形成良好的气体输入及分配结构，保证不同片位之间的工艺均匀性;上电极采用陶瓷隔离结构，具有高气压和高功率的工艺起辉能力，无工艺打火风险。既能有效提高工艺沉积速率，同时可提高腔室清洗时速率，有利于提升设备产能;针对LED行业主流的2"和4"片，载片台采用三区加热方式，内区和中区控制晶片的加热，外区则在晶片范围以外实现边缘保温效果，从而保证载片台内良好的温度均匀性。针对腔室、上盖及o-ring等位置，添加冷却结构，控制非加热部件的温度，延长部件使用寿命，提高机台安全性;设备装片容量61片2"或16片4"或7片6"，无论是目前的小尺寸晶片还是未来的大尺寸晶片，都可以在EPEE550上获得具有优势的产能。同时可针对客户的特殊要求，能够进行装片尺寸、数量、排布的定制化;设备具有过渡腔颗粒收集结构(专利技术)，收集副产物颗粒，减少对于真空泵组的颗粒污染，延长泵组使用寿命。规、阀安装口具有防颗粒结构，延长部件寿命，同时均增加维护盲板，便于颗粒清理;设备定期进行在线干法自动清洗，清洗速率快，清洗效果优异，清洗范围覆盖上、下电极及腔室侧壁，清洗后工艺恢复时间短，可快速转换为生产模式。

　　PECVD作为LED领域的制程设备之一，广泛应用于钝化层、阻挡层、保护层等工艺，是LED芯片生产中的重要组成部分。目前能够提供LED领域生产型PECVD设备的厂商主要来自国外，如Ulvac、Oxford、Samco等厂商。存在设备价格昂贵，难以提供稳定、持久的国内售后服务，以及后期新工艺开发的支持力度不够等缺点。

　　通过2014年LED市场逐渐趋于火热的大环境推动，国内主要LED厂商均在扩充产能、提升技术、降低成本。国产LEDPECVD设备的适时推出，将以其优异的机台性能，更具竞争力的设备产能及使用成本，高效快捷的售后服务，协助客户在LED领域不断取得产能、性能、成本方面的竞争优势，实现设备自身在LED领域更多的市场份额，最终形成与客户的共同成长与发展。

　　OFweek LED Awards2014行业年度评选网络投票阶段：9月15日-10月15日。在此期间您可以为您关注的企业及产品投上一票!页面即将开放敬请关注!http：//www、ofweek、com/award/2014/lights/wangluotoupiao、html