KLA-Tencor 推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机
KLA-Tencor 公司（KLAC）今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。
KLA-Tencor 制程控制信息部副总裁兼总经理 Ed Charrier 指出：“由于光刻复杂性及实验成本的大幅增加，电路设计师与芯片制造商不得不面对二次成像光刻所带来的挑战。计算光刻已成为控制这些成本一个必备工具。在计算光刻机中，PROLITH 11 的能力独具一格，它让工程师能够探索多种设计、材料或制程条件来解决特定问题——而不必耗费晶片厂的资源。”
二次成像光刻 (DPL) 是通过将图案分为两个交错图案来构建先进设备之微小部件的一种方法。这表示，一个双光罩组及新的光阻材料对于 DPL 层必不可少，这会增加制程的复杂性及成本。据专家预计，在 32 纳米节点的一个光罩组价格超过四百万美元，这强烈促使晶片厂要彻底衡量和评估一个二次成像、双光罩、双光阻策略将如何在自然制程条件范围下在晶片上冲印，以确保光罩设计、材料和制程参数在第一次就正确无误。
PROLITH 11 让工程师能够以前所未有的精确性来制作这种复杂系统的模型，然后通过考察在光罩设计、光阻属性和扫描曝光机或所印图案上的参数中或大或小的变化对二次成像影响，使用该模型对系统进行优化。使用 PROLITH 11，晶片厂可避免在产品晶片上进行耗时与昂贵实验的必要，这些实验会耽误进入市场的时间，并造成成千上万个报废的加工晶片。
作为 KLA-Tencor 为解决先进光刻挑战而设计的一整套系统中的一款光刻机，PROLITH 11 已出货至美国、日本和台湾的领先芯片制造商。PROLITH 平台包含市场上最为广泛使用的光刻模拟工具套件，安装在几乎每家芯片制造商目前正在生产的 65 纳米与 45 纳米设备的开发群中。
KLA-Tencor 制程控制信息部副总裁兼总经理 Ed Charrier 指出：“由于光刻复杂性及实验成本的大幅增加，电路设计师与芯片制造商不得不面对二次成像光刻所带来的挑战。计算光刻已成为控制这些成本一个必备工具。在计算光刻机中，PROLITH 11 的能力独具一格，它让工程师能够探索多种设计、材料或制程条件来解决特定问题——而不必耗费晶片厂的资源。”
二次成像光刻 (DPL) 是通过将图案分为两个交错图案来构建先进设备之微小部件的一种方法。这表示，一个双光罩组及新的光阻材料对于 DPL 层必不可少，这会增加制程的复杂性及成本。据专家预计，在 32 纳米节点的一个光罩组价格超过四百万美元，这强烈促使晶片厂要彻底衡量和评估一个二次成像、双光罩、双光阻策略将如何在自然制程条件范围下在晶片上冲印，以确保光罩设计、材料和制程参数在第一次就正确无误。
PROLITH 11 让工程师能够以前所未有的精确性来制作这种复杂系统的模型，然后通过考察在光罩设计、光阻属性和扫描曝光机或所印图案上的参数中或大或小的变化对二次成像影响，使用该模型对系统进行优化。使用 PROLITH 11，晶片厂可避免在产品晶片上进行耗时与昂贵实验的必要，这些实验会耽误进入市场的时间，并造成成千上万个报废的加工晶片。
作为 KLA-Tencor 为解决先进光刻挑战而设计的一整套系统中的一款光刻机，PROLITH 11 已出货至美国、日本和台湾的领先芯片制造商。PROLITH 平台包含市场上最为广泛使用的光刻模拟工具套件，安装在几乎每家芯片制造商目前正在生产的 65 纳米与 45 纳米设备的开发群中。