IBM与日本凸版印刷研发45纳米芯片用零件

     (华强电子世界网讯) 5月19日路透社消息，日本凸版印刷和IBM已合作从事光罩的研发。光罩是生产微芯片时所使用的玻璃板。
    
     日本经济新闻周四指出，这两家业者将在2007年前投入200亿日元(1.869亿美元)，研发下一代线宽45纳米芯片用光罩。
    
     光罩是在生产半导体时，将线路印制在硅晶圆上所使用的零件。
    
     凸版印刷在4月以710亿日元收购DuPont Photomasks后，成为全球最大光罩业者。该报指出，凸版印刷将于2007年中之前，投入100亿日元，在日本兴建一座量产的工厂。
    
     排名第二的大日本印刷则已与英特尔合作，研发45纳米芯片用光罩。
    
    

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