惊爆：中芯国际正挺进90纳米

     (华强电子世界网独家报道） 记者今日证实，中芯国际正挺进90纳米技术。10月26日，在上海全国电子产品展览会上的技术峰会上，中芯国际总裁张汝京虽然没有到达现场,但间接作了“繁荣中国制造，优化IC产业链”的演讲。同时，他的间接演讲也透露一个信息，中芯国际为了在技术环节能够继续领先，正逐步向90纳米工艺迈进。这将是我国当前芯片业的一个重大的可预见性技术高峰。
    
     这一预测得到中芯国际技术开发副总裁Simon Yang的证实。他表示，中芯国际将在今年年底前从欧洲一家供应商得到先进的光刻扫描仪，这家供应商可能是ASM Lithography。这台设备将用于130纳米设计的关键层，以及将于明年稍早开始的90纳米的研发工作。
    
     中芯国际同时还在微调一个IMEC转让的130纳米工艺参考平台，并可能解决困扰晶圆代工中的低K值材料问题。
    
     业内人士透露，中芯国际(SMIC)实际上已经接近达到了130纳米工艺水平，并准备开始90纳米工艺的基础性开发工作，同时它正在悄悄地准备193纳米扫描仪等所需的设备，以提高效率。这将有效的促进我国芯片技术的提高。