各大芯片厂家称明年90纳米制程将应用新技术

来源:PConline 作者: 时间:2004-12-15 17:39

     (华强电子世界网讯) 日前,IBM和AMD宣布已经研发出一种应变硅(straining silicon)制程实现方法的新技术,称为“Dual Stress Liners”(DSL)。据称,应用这种新技术能够极大改善芯片性能,加快芯片工作速度,更易于制造和价格更低。
    
      DSL技术很大程度降低了应变硅芯片制造的复杂度。事实上,应用DSL技术制造的芯片已经推出市场。但应用在90纳米制程上还是第一次,而且实验证明,把DSL技术和应变硅制程技术结合起来能够降低芯片的价格。所以几乎所有的芯片公司都表示将在2005年第一季度开始把DSL技术应用在90纳米制程。
    
      同时,DSL技术令IBM,AMD以及英特尔在处理器芯片技术竞赛上进一步升温。这一方面,英特尔已经先行一步。她已经在90纳米制程上应用了与DSL类似的技术,并声称明年还将把该增强技术应用在65纳米制程上。AMD则在最近推出的Athlon FX 处理器芯片上应用了该技术。
    
      本周在旧金山举办的国际电子器件会议(IEDM)上,IBM,AMD和英特尔将公开各自的制程技术细节。
    
      DSL技术简单的说就是在晶体管层上面把特殊的应变材料通过腐蚀方法,仅留下提高电信号传输速度的部分。
    
    

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(编辑 甘心)

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