英特尔耗资20亿美元 在爱尔兰修建芯片工厂

     (华强电子世界网讯) 英特尔公司于当地时间本周三在其股东大会上宣布，它将投资20亿美元在爱尔兰建立一座采用新一代工艺的芯片制造商。
    
    　　这笔投资将用于修建一座厂房以及购买采用0.065微米工艺制造处理器的半导体制造装备。该工厂的建筑面积将达到60000平方英尺，并计划在2006年投产。英特尔公司2004年计划的36-40亿美元的投资中将包括该项目前期阶段所需要的资金。
    
    　　英特尔公司称，尽管它在这一项目中将投入20亿美元，这一项目还得到了爱尔兰政府的资助和优惠政策。芯片生产工厂的成本每四年就会翻一番，选择在哪里修建生产工厂会与当地政府提供的优惠政策和资助密切相关。
    
    　　强大的制造能力一直是英特尔公司成功的核心。根据由英特尔公司的CEO贝瑞特在1970年代提出的“精确复制”策略，英特尔公司问题在一个地方修建一座完美的生产工厂，然后再世界各地“拷贝”它。这样，英特尔公司就能够迅速地采用新技术，并迅速地降低生产成本。
    
    　　由于晶体管尺寸非常小和芯片所需要的能量，转向0.065微米工艺对于任何一家厂商都不是一件轻松的事。采用0.09微米工艺的芯片的能耗已经造成产品延期等问题，并促使英特尔转向双内核芯片策略。到2007或2008年0.045微米工艺问世时，会出现更大的问题。到2021年，摩尔定律所依赖的缩小晶体管尺寸的方法将“走到死胡同的尽头”。
    
    

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