芯硕半导体中国有限公司推出国内首台无掩膜亚微米光刻机

     ATD2000是芯硕半导体中国有限公司推出的国内首台拥有自主知识产权的无掩膜亚微米商用光刻机。它基于数字微镜系统（DMD）的无掩膜技术，能够提供亚微米的分辨率，适合各种不同半导体器件、晶圆材料和晶圆尺寸要求，可以用于制作掩膜版、MEMS、生物芯片和光电子器件等。
    
     ATD2000的核心光路中采用了空间微镜阵列的数字光刻制版技术，曝光前无需传统的掩膜制作，可以快速生成所需的样片，提高了研发进程。
    
     ATD2000在曝光模式上不仅能够实现直写式扫描，而且能够对晶圆进行步进式曝光，同时根据加工图形的CD线宽要求，可以转换不同放大倍率投影镜头，实现不同比例的缩放。ATD2000系国内首家采用405nm的LED光源的设计方案，光源的使用寿命提高到15000小时以上，易于系统的温度控制，保证高精度图形加工需求。