VISTEC EBPG5000PES 系统高度可靠，设计架构经过实际证明是顶级的电子束光刻工具。系统拥有灵活的光电透镜系统，高亮度的热场发射电子束源，可以稳定的工作在50KEV和100KEV的加速电压，提供了小到2.2NM的束斑尺寸，因此，保障了最小分辨率可以稳定重复的达到小于8NM的结构。同时，系统采用了易用的交互图形化操作界面(GUI)，十分简单容易使用在多用途，多用户的学校和科研环境下。武汉光电国家实验室相关人士介绍道，VISTEC的EBPG5000PES 电子束光刻系统将进一步增强武汉光电国家实验室(WNLO)在光子学和光电领域的研发实力。“EBPG5000PES系统使我们能够应对所有现今研发中精细光刻的需求，我们确信无论在应用方面还是技术服务方面，都能得到VISTEC这一战略合作伙伴的支持。”
VISTEC电子束光刻公司负责人也表示. “我们非常高兴和武汉华中科技大学光电国家实验室(WNLO)共同达到合作过程中这一里程碑的时刻，确信VISTEC可以帮助华中科技大学光电国家实验室实现更多的成功，武汉光电国家实验室的电子束光刻系统是第一台在中国境内安装运行的EBPG5000PES系统，我们相信今后VISTEC的业务在中国范围内会有越来越多的稳定增长。”
