ASML全年净销售额增30.2%，2030冲击0.7nm工艺

ASML全年净销售额增30.2%，2030冲击0.7nm工艺

荷兰半导体设备供应商ASML于14日公布了2023年的年度报告。报告以“小影像，大影响”为主题，展现了ASML的商业模式及战略、公司治理以及财务表现情况。

报告期内，ASML 2023全年净销售额达到276亿欧元，较2022年的212亿欧元同比增长约30.2%；净利润为78亿欧元。

ASML是世界上最大的光刻系统制造商。这种设备在制造半导体的过程中起着至关重要的作用。尽管英特尔、德州仪器和英飞凌科技等芯片制造商都警告今年销售疲软，但对阿斯麦产品的需求仍是整个行业的风向标。

ASML乐观表示，半导体市场已到达谷底，正出现复苏迹象，但也警告地缘政治紧张和美国可能扩大对中国大陆的出口管制，仍是营运风险。

ASML财务长Roger Dassen评论表示：“我们相信市场如今来到跌势的最低点，尽管无法预测未来的确切走势，但复苏正在萌芽。”他说，“更长期趋势确定无疑”，人工智能（AI）、电气化、能源转型，为ASML业务的利多。

值得一提的是，ASML近日还宣布，已经向Intel交付了第一台High NA EUV极紫外光刻机。这台机器将被用于制造2nm工艺以下的芯片，并有望进一步推动摩尔定律的发展。

据了解，这种High NA EUV极紫外光刻机具有更高的孔径数值（NA），能够实现更小的临界尺寸和金属间距，从而支持制造更小尺寸的芯片。目前，台积电和三星等其他半导体制造商也将陆续接收这种光刻机，预计将能够支持达到1nm工艺左右的芯片制造。

下一步，ASML正在研究下一代Hyper NA（超级NA）光刻机，以继续推动摩尔定律的发展。这种新型光刻机将进一步提高孔径数值，预计将超过0.7nm。ASML CTO Martin van den Brink在《2023年度报告》中提出了Hyper NA EUV概念，有望在2030年问世。

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