永光化学推出一系列LED正负型光阻剂

【高工LED讯】永光化学因应半导体先进黄光微影制程需求，推出EPG 535光阻剂，该产品是一款G-Line (4寸、6寸厂)、I-Line(8寸厂)通用的光阻剂，其具有耐热性佳、附着性佳、高感旋光性(较低的曝光能量)、较大的制程宽容度等优势。其分辨率可达0.48μm。且在制程上比较容易加工。

EPG 590光阻为正型厚膜光阻剂，主要供货给太阳能硅晶圆厂以及被动组件厂商，其具有高穿透性、附着性佳等特性，可应用于10~50μm光阻膜厚的金与铜之电镀制程，以进行金凸块或铜线路的制作。在不同的蚀刻制程下，光阻图形皆能展现不脆裂与高解析的优点。

EPI 680光阻是高感旋光性的I-Line的光阻剂，应用在保护层(Passivation Layer)，具有较大的制程宽容度，其分辨率可达2μm，目前已推广到数家晶圆代工厂。

EPI 612光阻剂，应用在蓝宝石晶圆表面图案化PSS(Pattern Sapphire Substrate)，其分辨率可达0.64μm。将蓝宝石基板的表面蚀刻图案化之后，可有效提升LED的发光效率，降低LED发光成本。

此外，推出的FSR 110光阻(正型光阻剂)符合业界通用型1% Na2CO3或0.1% KOH显影系统，其分辨率可达5μm。具备高感旋光性、较大的制程宽容度、可挠性与良好附着力，可涂布在软性基材上，适用于高阶手机、高阶面板驱动IC。永光已经提出该项产品专利申请，目前产品已进入客户量产验证阶段。