我国集成电路高端装备自主化取得新突破

我国集成电路高端装备自主化取得新突破

　　工业和信息化部近日，由北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机，已经全面通过中芯国际集成电路制造有限公司的生产线全流程工艺验证，并获得客户订单。这标志着中国集成电路高端装备自主化取得了新的突破，并缩短了与国际一流设备的差距。

　　等离子刻蚀机是在硅片表面实现三维精细加工的高端设备，是集成电路制造中最核心的装备之一。当前，国际上进入量产的最高水平是28纳米技术，相比40纳米技术，可使集成电路的功耗更小、速度更快、成本更低，主要应用于CPU、存储器、移动通信、数字音视频等高端芯片产品。目前，国际上仅美国和日本各有一家企业能够提供满足28纳米生产线的成熟设备。

　　由于技术门槛高，高端刻蚀设备成为长期制约我国集成电路产业发展的瓶颈。目前，我国大规模集成电路生产线(8-12英寸)的芯片制造设备大量依赖进口，不仅严重影响我国集成电路产业发展，也对我国电子信息安全造成重大隐患。

　　北方微电子28纳米等离子硅刻蚀机通过自主创新，突破了精密等离子体控制、硅片表面温度精确控制、高气流均匀控制等多项关键技术，以全新的硬件设计达到了高速率、高均匀性、低损伤和低缺陷、精确尺寸和形貌控制、低颗粒污染等要求，多项关键指标达到国际先进水平。28纳米刻蚀技术的突破，打破了国外对28纳米集成电路生产设备的技术封锁和市场垄断，缩短了与国际先进水平的差距。

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