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陶氏发表先进半导体制造化学机械研磨液平台

陶氏电子材料是陶氏化学公司的一个事业部，本日推出OPTIPLANE化学机械研磨液(CMP)平台。OPTIPLANE研磨液系列的开发是为了满足客户对先进半导体研磨液的需求：能以有竞争力的成本，符合减少缺陷的要求和更严格的规格，适合用来製造新一代先

OPTIPLANE 化学机械研磨液 CMP

2016-07-27 11:52