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鼎龙股份拟新建集成电路CMP用抛光垫项目（三期）及年产1万吨集成电路制造清洗液项目
鼎龙股份公告，公司拟与湖北省潜江市江汉盐化工业园管委会签署相关合作协议，拟同意公司全资子公司湖北鼎龙汇盛新材料有限公司使用自有或自筹资金在湖北省潜江市江汉盐化工业园长飞大道1号建设鼎龙潜江光电半导体材料产业园（暂定名），具体实施集成电路CMP用
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陶氏发表先进半导体制造化学机械研磨液平台
陶氏电子材料是陶氏化学公司的一个事业部，本日推出OPTIPLANE化学机械研磨液(CMP)平台。OPTIPLANE研磨液系列的开发是为了满足客户对先进半导体研磨液的需求：能以有竞争力的成本，符合减少缺陷的要求和更严格的规格，适合用来製造新一代先
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应用材料公司推出新开发的CMP及CVD系统
研发制造精密材料工程设备与软体的应用材料公司上午发布新开发的AppliedReflexionRLKPrime化学机械研磨(CMP)系统，及AppliedProducerRXPPrecision化学气相沉积(CVD)系统。两项创新的CMP和CVD
2014-07-10 09:53