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ASML：第二代EUV系统预计2024年问世

在第一套极紫外光(EUV)微影设备正式出货之前，荷兰半导体设备大厂ASML透露了产业界期待已久的后续计划;该公司表示将投资并与光学大厂蔡司(CarlZeiss)合作，推出数值孔径(numericalaperture，NA)高于0.5的版本，但该

ASML EUV 步进机卡尔蔡司

2016-11-10 09:15