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  • EUV 光刻机耗能巨大,3 年后台积电将吃掉中国台湾 12% 电力

    8月26日消息,据彭博社报道,ASML新一代EUV光刻机每台耗电约1百万瓦,约为前几代设备的10倍,依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大,芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石。报道称,台积电拥有业界最多的80台EUV

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    2022-08-26 17:45
  • 韩国本土开发首款EUV光刻胶通过三星可靠性测试

    12月21日消息,韩国光刻胶供应商东进世美肯(DongjinSemichem)表示,近日通过了三星电子的EUV光刻胶可靠性测试(合格)。这款光刻胶为双方合作研发,打破韩国EUV光刻胶完全依赖海外供应商的局面,最快有望明年上半年向产线批量供应。据

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    2021-12-21 16:23
  • 荷兰巨头ASML将推出比EUV还先进的更新型光刻机

    12月15日,报道称,全球最先进的光刻机厂商荷兰AMSL公司正在开发一种新版本的EUV光刻机,将成为世界上最先进的芯片制造设备。这种更新型的光刻机被称为HighNA(高数值孔径)。据称,第一台高NA机器仍在开发中,预计从2023年开始提供先行体

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    2021-12-15 16:13
  • 三星宣布量产14纳米EUV DDR5 DRAM

    10月12日消息,据外媒报道,全球最大存储芯片制造商三星电子周二宣布,该公司开始使用极紫外光刻(EUV)技术批量生产业界最小的14纳米DRAM芯片,这有助于其巩固在存储行业的领导地位。继去年3月出货业界首款EUVDRAM之后,三星电子已将EUV

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    2021-10-13 09:49
  • EUV供应链全线飘红?

    今天,据彭博社报导,日本极紫外光(EUV)光罩检测设备商Lasertec总裁OsamuOkabayashi受访时透露,客户名单于上个会计年度(截至6月底为止)首度扩大到计算机DRAM制造商。他说,逻辑IC晶圆代工厂商采用3nm等先进制程技术,因

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    2021-10-09 16:12
  • 消息称台积电将启动EUV持续改善计划

    台积电下半年5nm接单满载,优化版4nm明年进入量产,已获苹果、高通、联发科、博通、英特尔等大厂采用,但3nm推进面临芯片设计复杂度及晶圆代工成本大幅拉高等问题,关键在于新款极紫外光(EUV)曝光机采购金额创新高,产出吞吐量(throughpu

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    2021-07-21 10:10
  • SK海力士开始使用EUV大规模生产1anmDRAM

    7月12日,SK海力士官方给出消息称,开始启用EUV光刻机闪存内存芯片。按照官方的说法,公司的第四代10nm(1a)级工艺的8Gigabit(Gb)LPDDR4移动端DRAM(动态随机存储器)产品已经在今年7月初开始量产。SK海力士预计从下半年

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    2021-07-13 11:09
  • 半导体四巨头扩大EUV产能建置,EUV设备及材料供应商直接受惠

    3月24日消息,包括英特尔、台积电、三星、SK海力士等半导体四巨头今年扩大极紫外光(EUV)产能建置及量产规模,包括向艾司摩尔(ASML)采购最新0.33数值孔径EUV曝光机,每小时曝光产量(throughput)可提升至160片,并与ASML

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    2021-03-24 09:33
  • 日本富士胶片或启动EUV光刻胶业务,希望在2024年之前获得10%市占

    1月8日消息,有报道指出,日本富士胶片已正式启动EUV光刻胶业务,目标在2024年之前获得全球的10%市占。富士胶片在生产据点导入高准确度的质量检查设备等,目前已经展开样品出货,计划最快在2021年的前半开始量产。由于AI人工智能、IoT物联网

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    2021-01-08 11:31
  • 韩国企业发力EUV光刻技术 不断缩小与外企差距

    据韩媒BusinessKorea报道,以三星为代表的韩国企业在EUV光刻技术方面取得了极大进展。根据对韩国知识产权局(KIPO)过去十年(2011-2020)的EUV相关专利统计,在2014年达到88项的顶峰,2018年为55项,2019年为5

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    2020-11-17 09:35

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