EUV 光刻机耗能巨大，3 年后台积电将吃掉中国台湾 12% 电力

EUV 光刻机耗能巨大，3 年后台积电将吃掉中国台湾 12% 电力

8 月 26 日消息，据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石。

报道称，台积电拥有业界最多的 80 台 EUV 设备，而且正在安装新一代设备，是吃电大户，预计 2025 年将占中国台湾省整体能源消耗的 12.5%，较 2020 年的 6% 高一倍还多。除了台积电外，美光在中国台湾也使用至少一种 EUV 设备。彭博分析师 Charles Shum 预估，在 3 年内，中国台湾代工厂四分之一的芯片制造都需要 EUV 设备。

IT之家了解到，台积电生产对于环境的影响程度，主要取决于发电来源。业内人士指出，中国台湾有许多需要运行如此高耗能设备的芯片厂，使得可再生能源变得重要和紧迫，但中国台湾却严重依赖化石燃料。据报道，中国台湾 2016 年制定一个目标，到了 2025 年，其中 20% 电力来自可再生能源。然而，从 7 月的最新能源审查显示，截至 2021 年底，只有 6% 电力来自可再生能源，促使其下调 2025 年的目标至 15%。

整体来说，虽然有机会找到用更环保的方式制造芯片，但没有任何厂商愿意放慢脚步。