荷兰巨头ASML将推出比EUV还先进的更新型光刻机
12月15日，报道称，全球最先进的光刻机厂商荷兰AMSL公司正在开发一种新版本的EUV光刻机，将成为世界上最先进的芯片制造设备。
这种更新型的光刻机被称为High NA（高数值孔径）。据称，第一台高NA机器仍在开发中，预计从2023年开始提供先行体验，以便芯片制造商可以更快地开始验证并学会如何使用。然后，客户可以在2024-2025年以此进行自己的研发工作。2025年以后，便很可能用于大批量制造。
NA光刻机可以让芯片制造商研制出更复杂的芯片。光刻机是芯片的重要生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。
- •Melexis升级锁存器，为电机应用“瘦身”2025-08-29
- •天空之眼：下一代无人机的AI视觉系统2025-08-29
- •思特威推出5000万像素1.0μm手机应用CMOS图像传感器2025-08-28
- •适用于高功率密度车载充电器的紧凑型SiC模块2025-08-28
- •赋能人工智能未来：ADI宣布支持800 VDC数据中心架构2025-08-28
- •艾迈斯欧司朗成功实现UV-C LED工作效率翻倍，为无汞消毒树立新标杆2025-08-28
- •东芝推出采用TOLL封装的第3代650V SiC MOSFET2025-08-28
- •ADI采用NVIDIA Jetson Thor平台，推动人形机器人物理智能与推理能力发展2025-08-28
- •瑞萨电子推出面向下一代智能家电和表计类产品的超低功耗RL78/L23 MCU2025-08-28
- •基于iGaN的300W高能效游戏适配器参考设计2025-08-22
