荷兰巨头ASML将推出比EUV还先进的更新型光刻机
12月15日，报道称，全球最先进的光刻机厂商荷兰AMSL公司正在开发一种新版本的EUV光刻机，将成为世界上最先进的芯片制造设备。
这种更新型的光刻机被称为High NA（高数值孔径）。据称，第一台高NA机器仍在开发中，预计从2023年开始提供先行体验，以便芯片制造商可以更快地开始验证并学会如何使用。然后，客户可以在2024-2025年以此进行自己的研发工作。2025年以后，便很可能用于大批量制造。
NA光刻机可以让芯片制造商研制出更复杂的芯片。光刻机是芯片的重要生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。
- •推动AI多场景落地，安谋科技Arm China以IP方案赋能中国“芯”动力2025-09-18
- •瑞萨电子超低功耗RA0系列新增电容式触控功能MCU2025-09-17
- •破局具身智能落地困境，安森美核心环节布局解析2025-09-17
- •大联大友尚集团推出基于MPS产品的同步降压变换器方案2025-09-17
- •艾迈斯欧司朗展示OLED屏下光谱颜色传感技术：突破环境束缚，让屏幕总能精准呈现预期显示效果2025-09-17
- •Cadence 借助 NVIDIA DGX SuperPOD 模型扩展数字孪生平台库，加速 AI 数据中心部署与运营2025-09-15
- •清洁电器开卷，智能MCU是关键变量2025-09-15
- •思特威推出5000万像素0.7μm手机应用CMOS图像传感器2025-09-15
- •先临三维EinScan Rigil多功能无线一体式手持3D扫描仪搭载 艾迈斯欧司朗先进光源解决方案2025-09-15
- •罗姆携众多先进解决方案和技术亮相2025 PCIM Asia Shanghai2025-09-15
