荷兰巨头ASML将推出比EUV还先进的更新型光刻机
12月15日,报道称,全球最先进的光刻机厂商荷兰AMSL公司正在开发一种新版本的EUV光刻机,将成为世界上最先进的芯片制造设备。

这种更新型的光刻机被称为High NA(高数值孔径)。据称,第一台高NA机器仍在开发中,预计从2023年开始提供先行体验,以便芯片制造商可以更快地开始验证并学会如何使用。然后,客户可以在2024-2025年以此进行自己的研发工作。2025年以后,便很可能用于大批量制造。
NA光刻机可以让芯片制造商研制出更复杂的芯片。光刻机是芯片的重要生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响。
- •IGBT基础知识:器件结构、损耗计算、并联设计、可靠性2025-12-29
- •Cat.1 bis如何破解智能设备的“移动与续航”难题?2025-12-26
- •思特威推出高端5000万像素0.7μm手机应用CMOS图像传感器2025-12-25
- •东芝推出适用于工业设备过流检测的高速响应、I/O全范围双通道比较器(CMOS)2025-12-24
- •艾迈斯欧司朗推出专为智能眼镜优化的紧凑型RGGB LED解决方案2025-12-24
- •美国按下“暂停键”:对华半导体征税推迟18个月2025-12-24
- •英特尔安装全球首台商用High-NA EUV光刻机!14A进程冲刺量产,制程革命近在眼前2025-12-23
- •艾迈斯欧司朗推出以人眼安全为核心设计准则的LED驱动芯片方案2025-12-23
- •围绕安世半导体争议,商务部再度表明严正立场2025-12-23
- •安森美携手格罗方德开发下一代氮化镓功率器件2025-12-23






