荷兰巨头ASML将推出比EUV还先进的更新型光刻机
12月15日，报道称，全球最先进的光刻机厂商荷兰AMSL公司正在开发一种新版本的EUV光刻机，将成为世界上最先进的芯片制造设备。
这种更新型的光刻机被称为High NA（高数值孔径）。据称，第一台高NA机器仍在开发中，预计从2023年开始提供先行体验，以便芯片制造商可以更快地开始验证并学会如何使用。然后，客户可以在2024-2025年以此进行自己的研发工作。2025年以后，便很可能用于大批量制造。
NA光刻机可以让芯片制造商研制出更复杂的芯片。光刻机是芯片的重要生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。
- •安谋科技CEO陈锋：立足全球标准与本土创新，赋能AI计算“芯”时代2025-07-11
- •Arm 技术助力《国家地理》探险家绘制地球海洋图景2025-07-10
- •Vishay AC03-CS系列轴向绕线安全电阻现推出WSZ引线版本2025-07-10
- •思特威推出3MP车规级CMOS图像传感器新品SC326AT2025-07-10
- •大联大世平集团推出基于DeepX和瑞芯微产品的多路物体检测方案2025-07-10
- •瑞萨电子推出面向单电机应用优化的卓越MCU, 涵盖电动工具、家用电器等广泛应用场景2025-07-09
- •线控技术重构汽车电子架构，电感式位置传感器成就标杆应用2025-07-09
- •艾迈斯欧司朗SYNIOS产品以更多创新和更多功能赋能汽车设计更多惊喜2025-07-09
- •奇瑞-罗姆供应链技术共创交流日：携手谱写汽车电子技术新篇章2025-07-09
- •大联大品佳集团推出基于Microchip产品的3.3KW双向图腾柱PFC逆变电源方案2025-07-09
