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Entegris EUV 1010光罩盒展现极低的缺陷率，已获ASML认证
业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris日前发布了下一代EUV1010光罩盒，用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。Entegris的EUV1010是与全球最大的芯片制造设备制造商之一的ASML密切合作而开发的，已
业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris日前发布了下一代EUV1010光罩盒，用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。Entegris的EUV1010是与全球最大的芯片制造设备制造商之一的ASML密切合作而开发的，已
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