三菱化学子将把半导体制造设备的洗净能力提高至2.6倍

来源:中国IC网 作者: 时间:2008-07-16 17:14

     三菱化学子公司新菱(北九州市,社长:伊势川英治)将在2010年度之前把半导体制造设备的洗净能力提高至07年度的2.6倍。为此将投资近20亿日元,在三重工厂和山形工厂增加洗净设备。该公司在东亚市场占有6成的份额。随着东亚邻国尖端半导体工厂的相继开工,该公司将进一步增强洗净能力、扩大客户范围。
    
     通过增加设备,2010年度精密洗净业务的营业额将比07年度增加44%、达到65亿日元。
    
     三重工厂将在08年10月之前、山形工厂将在2010年追加导入洗净设备和洗净作业所需的无尘室。将在无尘室内把半导体设备厂商分解的部件采用机械或人工用药液等进行洗涤,洗净杂质后捆包好送回原厂。
    
    
    
    

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