挑战功率管理更高要求，Zarlink全面升级BiCMOS工艺

       Zarlink半导体公司日前改进了其亚微米BiCMOS工艺技术，用于功率和温度更高的功率管理芯片。该技术命名为WP工艺，现已可通过多晶片制程服务来进行低成本成型。
       这种工艺结合了Zarlink Analog Foundry的20V 5GHz WPX/Y模拟双极技术和一套CMOS控制，这些对于电子元件的制造都是至关重要的，用来控制功率并延长电池寿命。
       Zarlink Analog Foundry首席技术官Dr. Peter Osborne表示：“很多BiCMOS产品都是以CMOS为中心，但是双极元件性能很差。而我们则在WP双极功率管理工艺基础上集成了我们的0.8微米CMOS工艺，来开发唯一的真正的模拟双极BiCMOS技术。接下来我们会将我们的DMOS技术结合到这一工艺中，以开发BCDMOS工艺。”
       Osborne表示，经过改进的晶体管性能是试用版VA产品的两倍多，各种输入电流情况下电压输出也更为一致。“之所以在功率管理性能上作出这一改进，是为了满足那些在日益苛求的应用中使用我们的工艺技术的客户的要求。”
       该公司表示，WP系列15层工艺主要是用于工业功率管理应用中，包括直流－直流电源模块、手机电池功率管理和所有线性功率管理应用。这种双极工艺带有高电阻值复晶阻器、氮化物电容器和双层金属，使得短电流线圈能以高密度构建。这些技术适用于超过20V和22V的功率管理应用。