ASML和Nikon争当光刻设备的领导者

ASML和Nikon争当光刻设备的领导者

    美国加利福尼亚州，圣何塞消息：荷兰光刻设备制造商ASML Holding NV公司和日本Nikon公司分别宣称自己是光刻设备制造的技术领导者。

    

    2月28号，日本Nikon公司宣称，该公司出厂了全球第一款45纳米的浸湿式光刻系统，即NSR-S610C，这一系统使用1.30数字孔径投影镜头的193纳米的浸湿式扫描仪，据说己经发货给芯片制造商日本东芝公司。Nikon公司是去年开始生产这一系统的。

    

    而荷兰ASML公司则声称自己是本行业的领导者。在2005年，ASML公司就推出了新型光刻系统，XT:1700i，这一系统使用1.2数字孔径投影镜头，193纳米的浸湿式扫描仪，可以量产45纳米芯片。而去年，ASML公司又推出了XT:1900i系统，该系统使用1.35数字孔径投影镜头的193纳米的浸湿式扫描仪，并计划2007年中旬推向市场。

    

    本周，ASML公司展示了两项光刻技术的新成果，它们是，利用XT:1900i系统生产的37纳米密集线路(dense lines)和利用该公司远紫外线Alpha Demo Tool糸统生产的32纳米密集线路(dense lines)以及密集接口(dense contact holes )。