英特尔投资10多亿美元 新墨西哥厂导入45nm工艺

美国英特尔宣布为了在新墨西哥州的Rio Rancho半导体工厂“Fab 11X”导入45nm工艺技术将投资10～15亿美元。（发布资料，英文）。并计划2008年下半年开始在该工厂采用45nm工艺进行量产。

　　新墨西哥州的生产基地已建成27年，Fab 11X作为英特尔第一个支持300mm晶圆的量产工厂于02年10月启动。目前该工厂采用的是90nm工艺技术。得知英特尔的大笔投资项目的消息后，新墨西哥州州长Bill Richardson高兴地表示：“我们一直在努力把新墨西哥州建成尖端技术中心。10亿多美元的投资就是我们努力成果的有力证明”。

　　英特尔还计划在俄勒冈州的工厂“D1D”和在亚利桑那州正在建设中的“Fab 32”，从07年下半年开始采用45nm工艺量产微处理器。同时，正在建设的以色列工厂“Fab 28”也将从08年上半年开始量产，如果计划进展顺利的话，Fab 11X将成为第4个45nm工厂。另外，对Fab 32的投资额为30亿美元，对Fab 28的投资额为35亿美元。

来源：日经BP社