Silicon Genesis开发出基于应变硅技术的新工艺

来源:《国际电子商情》 作者: 时间:2003-03-14 18:41

     (华强电子世界网讯) 绝缘硅(SOI)晶圆开发商Silicon Genesis公司最近宣布,开发成功一种基于应变硅(strained-silicon)技术的新工艺。
    
     该公司还宣布,正在寻求合作伙伴,以在应变硅市场的商业化方面助其一臂之力。“无疑,我们会用这种技术生产出产品。”Silicon Genesis公司的总裁兼首席执行官Francois J. Henley表示。
    
     此举将引发Silicon Genesis和AmberWave Systems在商业应变硅市场展开竞争。而其它厂商,包括IBM和英特尔,也在为未来的芯片设计开发自己的应变硅技术。
    
     Henley介绍说,Silicon Genesis的工艺名为“Nanostrain”,可以用来开发SOI和应变硅晶圆。他说:“我们目前正在寻找合作伙伴,以进一步优化这种新技术,并开发其市场潜力。”
    

(编辑 林帆)

    
    

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