三星与东芝延长半导体专利共享期限

来源:慧聪网 作者: 时间:2009-06-24 22:43

     据韩联社报道,三星电子日前发表告示称,与日本东芝就共享两家半导体部门的专利达成了协议。
    
     在NAND型闪存领域位居前二的三星电子和东芝,从2002年9月至今年3月,一直共享半导体领域专利技术。
    
     此次达成的协议延长了专利共享时间,但根据协议并未公开具体共享期限和条款。
    
     三星电子相关人士表示:“为了避免不必要的专利竞争,并加强领头企业间的合作,以及占领市场主导权,决定共享专利技术。”去年,三星电子和东芝在NAND型闪存市场的占有率分别为42.1%和29.3%,分别位居第1和第2,海力士则以12.3%位居第3。
    
    

相关文章

资讯排行榜

  • 每日排行
  • 每周排行
  • 每月排行

华强资讯微信号

关注方法:
· 使用微信扫一扫二维码
· 搜索微信号:华强微电子