应用材料两名高管因窃取三星技术机密被捕

应用材料两名高管因窃取三星技术机密被捕

据报道，韩国检方近日逮捕了两名美国半导体设备供应商应用材料Applied Materials高管，罪名则是这两名高管偷取三星DRAM、NAND芯片处理技术等机密并出售给了竞争对手海力士。

美国证券交易委员会的报告显示，Applied已经确认此事，并透露说其中一人是前应用材料韩国（AMK）高管、现任应用材料副总裁，另一名则是应用材料韩国子工厂的高管。

应用材料在一封电子邮件中表示，由于韩国检方目前还未公布两人的姓名，他们也不方便透露两者的信息。作为应用材料的一大客户，三星的利益显然受到了伤害，三星表示他们将采取“适当”措施。不过三星员工也牵扯到了此案当中。

据悉，应用材料高管向海力士泄露的信息涉及2005年三月到2009年12月的三星DRAM、NAND闪存芯片处理技术和三星芯片生产的投资计划。

海力士也确认说旗下员工确实因为接收三星机密信息被捕，但是他们表示，海力士从来没有将此非法所得技术应用于其芯片生产当中。韩国当地媒体援引韩国检方的话说：“该案件说明芯片制造商对其竞争对手、合作伙伴的安全防范意识需进一步加强。”

应用材料还表示：“我们对其客户、供应商、竞争对手以及其它第三方厂商的知识产权保护有着严格的规定，并将对违反规定的员工作出严肃处理。”