上海蓝光推出新型无掩膜侧向外延技术
来源:华强LED网 作者:—— 时间:2011-06-03 13:56
上海蓝光日前提出一种新型无掩膜侧向外延技术,可在蓝宝石衬底上生长位错密度更低的GaN薄膜,在蓝宝石衬底表面原位形成高密度的纳米坑,衬底和GaN之间粗糙的界面极大地提高LED光提取效率。
据上海蓝光郝茂盛博士介绍,该公司是大陆首家从事GaN基LED外延片、芯片研发和产业化生产的企业,位于中国国家“863”计划光电子领域科技成果转化基地。至2010年底,上海本部公司拥有MOCVD生产线20条,年产蓝绿LED芯片100亿颗。同时,该公司安徽生产基地计划上200条MOCVD生产线,一期建50条,二期建150条。
该公司主要产品有氮化镓基高亮度蓝、绿光外延片及芯片。其中大功率芯片(45*45 mil)发光效率达到120lm/w @ 350mA,量产水平已达100 lm/w @ 350mA。小功率芯片(10*23 mil)的量产水平已达7lm @ 20mA。除此外,郝博士还介绍了高端技术芯片,如PSS技术,外延技术,芯片工艺,薄膜垂直结构技术及界面粗化技术等。
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