中国集成电路：自主创新 在战争中培养“将军”
我国每年进口额最大的单项商品是什么？是石油吗？不是。是铁矿石？更不是。是芯片！是集成电路芯片！我国每年进口的集成电路芯片价值高达1200亿美元。放眼世界，集成电路作为信息产业的基础和核心，是国民经济和社会发展的战略性产业，在推动经济发展、社会进步、提高人民生活水平以及保障国家安全等方面
发挥着重要作用。能否用自己的关键装备生产集成电路，已成为当前国际竞争的焦点和衡量一个国家或地区现代化程度以及综合国力的重要标志。
由于西方国家的技 术封锁和国内较为薄弱的高科技产业基础，中国一直没有自己的集成电路制造关键装备，长期以来在国际竞争中缺少话语权，严重制约了我国集成电路产业的快速发 展。 2002年3月，上海微电子装备有限公司 （简称SMEE）肩负起为我国集成电路产业发展研制关键装备——光刻机的历史使命，在上海浦东张江高科技园区这片创新的热土上诞生了。十年来， SMEE一步一个脚印，踏实地迈出了开发国产高端光刻设备坚实的步伐。
集成电路，通俗说就是 “芯片”。随着信息社会的发展，手机、电脑、电视等各种电子移动终端都离不开集成电路。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，它的体积越来越小，性能越来越强大。特别是近20年来，几乎每隔两三年就有一代产品问世。要把一块体积小巧、功能强大的集成电路芯片制造出来，除了卓越的电路设计外，更离不开将设计图型转换成高性能芯片的制造设备，而其中最为关键的设备就是 光刻机。在摩尔定律的推动下光刻机的精密程度已经以纳米为单位。
人们常说，制造一块芯片，其精细程度比在一根头发丝上 “绣花”还要高。高端光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备，是精密光学、机械、控制和材料等先进科学技术和工程技术共同交叉融合的复杂大系统产物，它的研发过程及研发成果对集成电路产业和信息产业的发展具有极大的技术带动作用。
SMEE的工程师们打了个更形象的比方：用光刻机在硅片上刻电路，犹如两架波音747客机在以每小时1000公里的速度同步飞行时，它们可以同时在一颗 小米粒上刻字！这正是高端光刻机工件台掩模台高速同步运动时所达到的纳米级同步精度。要制造出如此高精度的芯片，对光刻机本身的各项精度要求就更高，以重 要零件镜片面形误差为例，必须在5纳米以内，相当于整个足球场的高低误差不超过0.5毫米。
由于高端光刻机的系统多、技术复杂性强、 专利壁垒多，如何使其研制过程能始终处于良好的受控状态，这是一个很大的难题。SMEE一方面努力学习并借鉴世界上大型复杂工程项目的管理案例，几年来始 终不渝地坚持推进用系统工程管理思想和方法来组织推进光刻机项目实施，坚持用产品化、工程化思想来进行产品研发。另一方面高度重视知识产权战略的实施，组 织力量研究竞争对手在相关领域内的核心专利、布局态势、技术路线、侵权风险等，将创新视为企业的生命和永恒的“发动机”，结合研发项目开展创新实践，有效 运用创新方法体系解决了多项实际问题，正确定义创新的内涵和外延，重点聚焦集成创新和工程创新，将创新和合作、“拿来主义”有机结合，将尊重知识产权和 “合理冲撞”有机结合，将“自己创新”和“自主创新”有机结合，努力突破竞争企业专利垄断的坚壁。
通过十年的“卧薪尝胆”，SMEE 具备了高端光刻机的系统设计与集成测试的能力，掌握了光刻机多项核心关键技术并拥有了这一领域的多项自主知识产权，自主设计、制造和集成的国内首台高端投 影光刻机样机于2007年问世，在全世界为数不多的光刻机厂商名录中开始出现了SMEE的名字。
由于西方国家的技 术封锁和国内较为薄弱的高科技产业基础，中国一直没有自己的集成电路制造关键装备，长期以来在国际竞争中缺少话语权，严重制约了我国集成电路产业的快速发 展。 2002年3月，上海微电子装备有限公司 （简称SMEE）肩负起为我国集成电路产业发展研制关键装备——光刻机的历史使命，在上海浦东张江高科技园区这片创新的热土上诞生了。十年来， SMEE一步一个脚印，踏实地迈出了开发国产高端光刻设备坚实的步伐。
集成电路，通俗说就是 “芯片”。随着信息社会的发展，手机、电脑、电视等各种电子移动终端都离不开集成电路。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，它的体积越来越小，性能越来越强大。特别是近20年来，几乎每隔两三年就有一代产品问世。要把一块体积小巧、功能强大的集成电路芯片制造出来，除了卓越的电路设计外，更离不开将设计图型转换成高性能芯片的制造设备，而其中最为关键的设备就是 光刻机。在摩尔定律的推动下光刻机的精密程度已经以纳米为单位。
人们常说，制造一块芯片，其精细程度比在一根头发丝上 “绣花”还要高。高端光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备，是精密光学、机械、控制和材料等先进科学技术和工程技术共同交叉融合的复杂大系统产物，它的研发过程及研发成果对集成电路产业和信息产业的发展具有极大的技术带动作用。
SMEE的工程师们打了个更形象的比方：用光刻机在硅片上刻电路，犹如两架波音747客机在以每小时1000公里的速度同步飞行时，它们可以同时在一颗 小米粒上刻字！这正是高端光刻机工件台掩模台高速同步运动时所达到的纳米级同步精度。要制造出如此高精度的芯片，对光刻机本身的各项精度要求就更高，以重 要零件镜片面形误差为例，必须在5纳米以内，相当于整个足球场的高低误差不超过0.5毫米。
由于高端光刻机的系统多、技术复杂性强、 专利壁垒多，如何使其研制过程能始终处于良好的受控状态，这是一个很大的难题。SMEE一方面努力学习并借鉴世界上大型复杂工程项目的管理案例，几年来始 终不渝地坚持推进用系统工程管理思想和方法来组织推进光刻机项目实施，坚持用产品化、工程化思想来进行产品研发。另一方面高度重视知识产权战略的实施，组 织力量研究竞争对手在相关领域内的核心专利、布局态势、技术路线、侵权风险等，将创新视为企业的生命和永恒的“发动机”，结合研发项目开展创新实践，有效 运用创新方法体系解决了多项实际问题，正确定义创新的内涵和外延，重点聚焦集成创新和工程创新，将创新和合作、“拿来主义”有机结合，将尊重知识产权和 “合理冲撞”有机结合，将“自己创新”和“自主创新”有机结合，努力突破竞争企业专利垄断的坚壁。
通过十年的“卧薪尝胆”，SMEE 具备了高端光刻机的系统设计与集成测试的能力，掌握了光刻机多项核心关键技术并拥有了这一领域的多项自主知识产权，自主设计、制造和集成的国内首台高端投 影光刻机样机于2007年问世，在全世界为数不多的光刻机厂商名录中开始出现了SMEE的名字。