中国集成电路：自主创新 在战争中培养“将军”

中国集成电路：自主创新 在战争中培养“将军”

　　十年来，SMEE已申请中国专利 947项，其中大部分为发明专利。公司2008年被评为上海市专利工作示范企业；2009年被评为上海市知识产权示范企业；2010年被评为上海市首批创 新型企业，被国家知识产权局评为第二批全国企事业知识产权示范创建单位；2011年被授予第十三届中国专利优秀奖。
       专家之所以看好中国集成电路产业，还有一个更重要的因素是，它在我国发展战略性新兴产业的计划中，扮演着重要角色。随着技术的发展，许多相关领域都需要 高精密的光刻机。从芯片封装，到高亮度半导体照明，再到平板显示器制造……可以说，光刻机技术越先进，其对其他相关领域的带动性越强，越是容易在这些领域 开花结果。
　　微电子公司深谙 “沿途下蛋”的道理，及时运用国家重大专项实施所掌握的关键技术，积极推进国产先进封装光刻机和其他用途光刻机产品开发，全力支持多个产业发展。例如在集 成电路封装产业领域，针对国内生产线用户需求，及时开发了用于倒装焊凸点制备的、具有自主知识产权的先进封装凸点光刻机，提升了我国先进封装关键装备的技 术能级，为改变我国先进封装光刻机完全依赖进口的局面奠定了良好基础。首台先进封装光刻机于2009年实现销售，在用户生产线运行至今，连续封装了几十万 片硅片，得到了客户较高的评价和认同。目前该系列产品已形成批量销售，并实现了海外市场销售突破。
　　再如TFT平板显示器方面，尽管我 国是制造大国，但其制造设备完全依赖进口。 SMEE于2009年根据国内OLED平板显示器市场的发展趋势，并与国内多家平板显示器制造商合作，针对性地开发了2.5代、 4.5代、 5.5代国产AMOLED显示屏电路制造用的光刻机设备，部分产品已进入工艺线试用。随着高亮LED照明产业的快速发展，其相关技术的实现也需要靠光刻机 技术进行支撑， SMEE首款高亮度LED照明用光刻机将于近期问世。
　　除了 “沿途下蛋”，还要 “化整为零”。 SMEE在光刻机研制过程中努力将有市场需求的单元技术转化为产品，完成了光刻机超精密温度控制单元 （TCU）和高精度温度控制产品 （Chiller）的开发，并将这些产品直接为集成电路产业生产线服务。产品进入中芯国际上线试验测试情况良好，已被确定为合格供应商。此外，公司目前利 用已经掌握技术成果研发完成了中高端双频激光干涉测量系统，应用于先进封装光刻机和OLED光刻机产品的配套，并实现了向国内其他领域用户的多台套销售。　　
　 　光刻机人才既需要丰富雄厚的基础理论知识，又需要长时间积累的实际经验；既需要系统工程师，也需要高级技工等高水平的能工巧匠。SMEE始终将创新人才 视为企业最宝贵的财富，坚持以自主培养为主，积极引进为辅的人才战略。由于光刻机项目实施的时间紧迫，现有人员没有时间 “上军校”进行系统学习后再做光刻机。 SMEE加强内部传帮带的各种培训，并把一些具备系统工程师和专业工程师潜质的好苗子推向第一线，给他们压担子锻炼，“在战争中学习战争，在战争中锤炼部 队，在战争中选拔将军”。通过几年的工程化锤炼，一支光刻机核心团队已初具规模。（责编：Lecea)