中芯国际针对28nm及40nmIP方案在沪举办研讨会

中芯国际针对28nm及40nmIP方案在沪举办研讨会

　　中芯国际集成电路制造有限公司(中芯国际)，中国内地规模最大、技术最先进的集成电路晶圆代工企业，今日于上海举办其2013年暨第五届先进技术专题研讨会。此次研讨会以40纳米及28纳米IP解决方案为主题，旨在促进中芯国际与客户在高端设计技术上有更深入的交流，以推动技术创新和商务合作。

　　中芯国际今日于上海举办其2013年暨第五届先进技术专题研讨会。此次研讨会以40纳米及28纳米IP解决方案为主题，旨在促进中芯国际与客户在高端设计技术上有更深入的交流，以推动技术创新和商务合作。

　　中芯国际副总裁兼中国区总经理彭进做开幕致辞，指出中芯预期今年28纳米技术能够给客户做设计先导产品，20/14纳米的研发也在紧密筹备中，并阐述了中国市场的重要性以及近年中国市场份额的增长。中芯国际设计服务中心资深副总裁汤天申针对中芯40纳米、28纳米工艺以及IP研发进展做了详尽介绍，将中芯国际的增值技术和服务传达给与会嘉宾。

　　会上展示了中芯国际40及28纳米的研发成果、40纳米技术设计和流片方法介绍、针对中国市场的嵌入式NVM应用平台、中芯国际基础IP及特色IP解决方案、RFSPICE模型和PDK介绍等。

　　超过200位资深电子产品设计工程师参与此次研讨会。来自ARM、Ansys/Apache、BriteSemi、Cadence、MentorGraphics、Innosilicon、Synopsys的特邀嘉宾，以及中芯国际其他合作伙伴针对其IP研发、设计方案、应用平台做了更深入的介绍和探讨。

　　彭进先生做闭幕总结，感谢中芯国际所有客户以及合作伙伴的长期支持与合作，并期待今后继续保持合作，共同迈向更璀璨的未来。

　　此外，中芯国际合作伙伴在技术研讨会上设立展台，展示了包括智能模块、单元库、EDA电子设计自动化工具等产品，以及设计支持等服务。