ASML极紫外光技术培训中心在台湾开张

全球半导体微影技术厂商艾司摩尔(ASML) 于20日举行“EUV (极紫外光) 全球技术培训中心”开幕典礼。该培训中心座达到台南科学园区，占地1,625平方米，配备实机模块(live module)，提供技术理论课程和无尘室实机操作课程等多样化培训内容，总投资金额达到1,350万欧元(约新台币4.74亿元)。该中心目前配置14位讲师，估计每年可提供数千小时的课程，为ASML和其客户培育360位EUV技术工程师。而培训中心设立之后，ASML在台湾的研发团队人数也预计在3年内由原本的280人，提升至500人。

ASML全球副总裁暨台湾区总经理陈文光表示，感谢南科管理局、相关政府单位与客户及伙伴的支持与协助。ASML EUV全球技术培训中心的落成将可为半导体产业提供更完整的服务，使得ASML与全球半导体产业及客户共同增长。

ASML指出，自2010年提供第一台EUV微影设备原型机给台积电进行研发工作开始，就为全球微影技术开创新纪元。2017年，ASML再交付第一台量产型EUV微影系统TWINSCAN NXE:3400给台积电，写下商用EUV制程技术的新里程。至今，台湾的EUV装机规模领先全球。因此，ASML在台南成立EUV全球技术培训中心不仅让使得公司在台湾的运营和服务项目更多样化，更实现了全力支持客户先进制程开发与量产的承诺。