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中微公司首台8英寸CCP刻蚀设备Primo AD-RIE 200顺利付运
2021年6月15日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）首台8英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备PrimoAD-RIE200顺利付运客户生产线。（图为中微CCP刻蚀设备研发团队部分主要成员）PrimoAD-RIE
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