刻蚀设备-标签

中微公司首台8英寸CCP刻蚀设备Primo AD-RIE 200顺利付运

2021年6月15日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）首台8英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备PrimoAD-RIE200顺利付运客户生产线。（图为中微CCP刻蚀设备研发团队部分主要成员）PrimoAD-RIE

中微公司刻蚀设备付运

2021-06-16 10:10