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  • 中微公司首台8英寸CCP刻蚀设备Primo AD-RIE 200顺利付运

    2021年6月15日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)首台8英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备PrimoAD-RIE200顺利付运客户生产线。(图为中微CCP刻蚀设备研发团队部分主要成员)PrimoAD-RIE

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    2021-06-16 10:10

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