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3D半导体光刻机-标签
佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机
4月1日报道,佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机。在尖端半导体领域,3D技术可以通过堆叠多个芯片来提高半导体的性能。佳能新的光刻机产品最早将于2023年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约4倍,可支持AI使用的大型半导体的生产。据悉,3D
佳能
3D半导体光刻机
半导体
2022-04-01 16:05