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安森美半导体推出IPD2工艺技术
安森美半导体(ONSemiconductor)推出新的集成无源元件(IPD)工艺技术——IPD2。这新工艺是公司增强既有的HighQ?硅铜(copperonsilicon)IPD技术，第二层的铜层厚度仅为5微米(μm)，增强了电感性能，提高了灵
2010-07-08 14:53
安森美半导体(ONSemiconductor)推出新的集成无源元件(IPD)工艺技术——IPD2。这新工艺是公司增强既有的HighQ?硅铜(copperonsilicon)IPD技术，第二层的铜层厚度仅为5微米(μm)，增强了电感性能，提高了灵
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