台积电浸润式显影功臣 林本坚：22奈米制程从天空找灵感

台积电浸润式显影功臣 林本坚：22奈米制程从天空找灵感

           台积电（2330）将于2007年9月正式投入45奈米制程量产！这是台积电首次以自行创发、与设备商共同开发的浸润式微显影设备投产的制程技术，也距离创发人、台积电资深处长林本坚提出这构想足足将近5年之久。从梦想初生到美梦成真，除了印证半导体界的共同努力之外，林本坚的执着及他对科技有如宗教般坚定不移的信仰支撑，绝对是一大功臣。
       台积电采用193波长曝光设备，量产45奈米制程，这套设备之所以引人瞩目，在于不同以往的“干式”制程，而是“湿式”机台。过去干式曝光显影是在无尘室中，以空气为媒介进行，透过光罩在晶圆上显影；而浸润式微影则是以水为透镜，在晶圆与光源间注入纯水，波长光束透过“水”为中介，会缩短成更短波长，得以刻出更精密晶片。就是这项发明，让半导体的摩尔定律得以朝45奈米制程之后沿续。
       时间回溯到2002年，林本坚受邀参加一场国际光电学会技术研讨会，会中他发表这项发现，语惊四座，因为当时的半导体设备商多研发焦点放在如何延续干式机台的生命，并已耗费数十亿美元进行开发。林本坚的理论无疑是在业界投出一颗炸弹，但经过他无数研讨会努力奔走、寻找与设备商合作，最后，台积电在2004年与ASML共同完成开发全球第一台润式微影机台，让业界在震惊之余也刮目相看。
       如今，浸润式显影不但是英特尔（Intel）等半导体龙头、设备商所认定的跨入45奈米制程之后的解决方案，也已正式纳入国际半导体蓝图架构成为主流。回顾过去林本坚提出的“一滴水”理论，过了5年，台积电终于将在2007年下半正式用来量产。林本坚的“微物”论改变的半导体技术的进展，也改变由晶片所驱动的世界，现在的他，则投入22奈米制程之后设备研究，不同的是，这次灵感来自“天空”。
       林本坚说，22奈米制程之后多重直接式电子束（E-Beam Direct Write）将是最佳解决方案，他说航太工程的演进给了他许多灵感，他巧妙地比喻，现在许多设备商投入的EUV设备就像是太空梭一样成本太昂贵，又不适合载客，E-Beam就是向不需要飞行跑道的直升机，可以直接空降在晶圆上，灵巧又符合成本效益。看来“一沙一世界、一奈米一宇宙”这句话用在他身上再洽当也不过了。